Reaction of Alkenes with Hydrogen-Terminated and Photooxidized Silicon Surfaces. A Comparison of Thermal and Photochemical Processes
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Notice bibliographique
Résumé
Reagentless micropatterning of hydrogen-terminated Si(111) via UV irradiation through a photomask has proven to be a convenient strategy for the preparation of ordered bicomponent monolayers. The success of this technique relies upon the differential rate of reaction of an alkene with the hydrogen-terminated and photooxidized regions of the surface. Monolayer formation can be accomplished under either thermal or photochemical conditions. It was observed that, after 3 h, reaction in neat alkene solution irradiation (Rayonet, 300 nm) afforded the expected patterned surface, while thermal conditions (150 degrees C) resulted in a partial loss of pattern fidelity. Monolayer properties and formation were studied on oxidized and hydrogen-terminated silicon under thermal and photochemical initiation, by contact angle, ellipsometry, Fourier transform infrared spectroscopy, high-resolution electron energy loss spectroscopy, and X-ray photoelectron spectroscopy. Results show that alkenes add to silanol groups on the silica surface in a manner consistent with acid catalysis: once attached to the surface, the silica oxidized the hydrocarbon.
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Scores Codex et Gemma par catégorie
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,000 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,000 | 0,000 |
| Science ouverte | 0,000 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,000 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
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