Status of EUV reticle handling solution in meeting 32 nm HP EUV lithography
Notice bibliographique
Résumé
Significant progress has been made over the past several years in developing extreme ultraviolet (EUV) mask infrastructure, especially in EUV reticle handling and protection. Today, the industry has converged to standardize the dual pod reticle carrier approach in developing EUV reticle handling solutions. SEMATECH has already established reticle handling infrastructure compliant with industry's draft standard, including carrier, robotic carrier handling, automated carrier cleaning, vacuum protection, and state-of-the-art particulate contamination testing capabilities. It proves to be one of the key enablers in developing EUV reticle protection solutions, through broad collaboration with industry stakeholders and suppliers. In this paper, we discuss our in-house reticle handling infrastructure and provide insights on how to apply it in EUV lithography pilot line development and future production line. We present particulate contamination free baseline results of state-of-the-art EUV reticle carriers, i.e., sPod, throughout lifecycle uses. We will also compare the results against requirements for 32 nm half-pitch (HP) EUV lithography, to identify the remaining challenges ahead of the industry.
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Comment cette classification a été obtenuedéplier
Prédiction machine sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Le volet Gemma est une étiquette directe du modèle pour chaque travail de la base, lue sur la notice réduite au titre. Le volet Codex est un classifieur appris des 10 348 étiquettes directes de Codex et calibré sur les taux pondérés de l'échantillon; les champs sans appui suffisant ne portent aucun appel Codex. Le mode candidate est l'union des deux volets; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont pas des étiquettes humaines.
Scores du classifieur distillé par catégorie (deux têtes)
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,002 | 0,002 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,001 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,001 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,001 | 0,000 |
| Communication savante | 0,001 | 0,002 |
| Science ouverte | 0,001 | 0,001 |
| Intégrité de la recherche | 0,001 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,004 | 0,001 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découleClassification
machine, non validéePrédiction automatique; un appel candidat d’une seule source (Gemma direct ou Codex distillé), pas un consensus.
Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».