MétaCan
Menu
Retour à la cohorte
Enregistrement W1990662975 · doi:10.1116/1.1667502

Inductively coupled plasma etching of GaAs low loss waveguides for a traveling waveguide polarization converter, using chlorine chemistry

2004· article· en· W1990662975 sur OpenAlexaff
Jiangfeng Lu, X. Meng, A. J. SpringThorpe, F. R. Shepherd, M. Poirier

Notice bibliographique

RevueJournal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films · 2004
Typearticle
Langueen
DomaineEngineering
ThématiquePhotonic and Optical Devices
Établissements canadiensNational Research Council Canada
Organismes subventionnairesnon disponible
Mots-clésWaferPhotoresistOptoelectronicsMaterials scienceReactive-ion etchingDry etchingInductively coupled plasmaEtching (microfabrication)FabricationPhotolithographyOpticsPlasmaNanotechnology

Résumé

récupéré en direct d'OpenAlex

A traveling waveguide polarization converter [M. Poirier et al.] has been developed, which involves long, low loss, weakly confined waveguides etched in GaAs (epitaxially grown by molecular beam epitaxy), with electroplated “T electrodes” distributed along the etched floor adjacent to the ridge walls, and airbridge interconnect metallization. This article describes the development of the waveguide fabrication, based on inductively coupled plasma (ICP) etching of GaAs using Cl2 chemistry; the special processes required to fabricate the electrodes and metallization [X. Meng et al.], and the device characteristics [M. Poirier et al.], are described elsewhere. The required waveguide has dimensions nominally 4 μm wide and 2.1 μm deep, with dimensional tolerances ∼0.1 μm across the wafer and wafer to wafer. A vertical etch profile with very smooth sidewalls and floors is required to enable the plated metal electrodes to be fabricated within 0.1 μm of the ridge. The ridges were fabricated using Cl2 ICP etching and a photoresist mask patterned with an I-line stepper; He backside cooling, combined with an electrostatic chuck, was employed to ensure good heat transfer to prevent resist reticulation. The experimental results showed that the ridge profile is very sensitive to ICP power and platen rf power. High ICP power and low platen power tend to result in more isotropic etching, whereas increasing platen power increases the photoresist etch rate, which causes rougher ridge sidewalls. No strong dependence of GaAs etch rate and ridge profile were observed with small changes in process temperature (chuck temperature). However, when the chuck temperature was decreased from 25 to 0 °C, etch uniformity across a 3 in. wafer improved from 6% to 3%. Photoresist and polymer residues present after the ICP etch were removed using a combination of wet and dry processes.

Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.

Comment cette classification a été obtenuedéplier

Prédiction machine sur la base complète

Imitation des enseignants

Ni prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Le volet Gemma est une étiquette directe du modèle pour chaque travail de la base, lue sur la notice réduite au titre. Le volet Codex est un classifieur appris des 10 348 étiquettes directes de Codex et calibré sur les taux pondérés de l'échantillon; les champs sans appui suffisant ne portent aucun appel Codex. Le mode candidate est l'union des deux volets; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont pas des étiquettes humaines.

score de la tête « metaresearch » (Codex)0,000
score de la tête « metaresearch » (Gemma)0,000
Version: metacan-v3-hybrid-931329e0061cStatut de validation: machine_predicted_unvalidated
Catégories candidatesaucune
Catégories consensuellesaucune
DomaineSignal candidat: aucune · Signal consensuel: aucune
Devis d'étudeSignal candidat: Expérimental (laboratoire) · Signal consensuel: Expérimental (laboratoire)
GenreSignal candidat: Empirique · Signal consensuel: Empirique
Score de désaccord entre enseignants0,001
Score d'incertitude au seuil0,004

Scores du classifieur distillé par catégorie (deux têtes)

CatégorieCodexGemma
Métarecherche0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens strict)0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens large)0,0000,000
Bibliométrie0,0000,000
Études des sciences et des technologies0,0000,000
Communication savante0,0000,000
Science ouverte0,0010,000
Intégrité de la recherche0,0000,001
Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger)0,0000,000

Scores machine (provisoires)

Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.

Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.

Tête enseignante Opus0,012
Tête enseignante GPT0,240
Écart entre enseignants0,228 · la distance entre les deux têtes enseignantes sur ce seul travail
Statut de validationscore_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle

Classification

machine, non validée

Prédiction automatique; un appel candidat d’une seule source (Gemma direct ou Codex distillé), pas un consensus.

Les modèles n’ont appliqué aucune catégorie : rien dans la taxonomie ne correspondait à ce travail.
Devis d'étudeExpérimental (laboratoire)
Domainenon disponible
GenreEmpirique

Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».

En bref

Citations10
Publié2004
Routes d'admission1
Résumé présentoui

Explorer davantage

Même revueJournal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and FilmsMême sujetPhotonic and Optical DevicesTravaux en français237 207