Influence of ion mixing on the energy dependence of the ion-assisted chemical etch rate in reactive plasmas
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Notice bibliographique
Résumé
Recently, Stafford et al. [Appl. Phys. Lett. 87, 071502 (2005)] have shown that in contrast to the etch yield on a saturated surface, the ion-assisted chemical etch rate cannot universally be modeled by a simple square-root energy dependence. This results from the surface coverage by reactive neutral species being also a function of the ion energy. In this work, we further point out that depending on the plasma-material combination, the etch rate can exhibit two regimes that are characterized by different dependences on the ion energy. While these results are inconsistent with currently available models, we show that they can be interpreted by taking into account ion mixing effects on the desorption rate of volatile reaction products involved in the model of Stafford et al. Application of this rate model to the etching of Si, SiO2, HfO2, and ZrO2 in chlorine and fluorine plasma chemistries provides an excellent description of the simultaneous dependence of the etch rate on ion energy and on ion and reactive neutral fluxes.
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Scores Codex et Gemma par catégorie
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,000 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,000 | 0,000 |
| Science ouverte | 0,000 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,000 | 0,000 |
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