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Enregistrement W2018482323 · doi:10.1149/1.2911521

Material and Integration Issues for Rare Earth Silicides as Gate and Diffusion Contacts in Advanced CMOS Technologies

2008· article· en· W2018482323 sur OpenAlex
C. D’Emic, K. Ohuchi, Conal E. Murray, C. Lavoie, Christopher Scerbo, R. Carruthers, Paul R. Besser, Bin Yang

Pourquoi ce travail est dans la base

Une base qui oublie comment elle a trouvé un travail ne peut pas être vérifiée. Voici les voies qui ont admis celui-ci.

affAu moins un auteur déclare une institution canadienne dans l'instantané OpenAlex épinglé.

Notice bibliographique

RevueECS Transactions · 2008
Typearticle
Langueen
DomainePhysics and Astronomy
ThématiqueSemiconductor materials and interfaces
Établissements canadiensAdvanced Micro Devices (Canada)
Organismes subventionnairesnon disponible
Mots-clésMaterials scienceSilicideSheet resistanceAnnealing (glass)Contact resistanceSchottky barrierOptoelectronicsDiffusion barrierSiliconMetallurgyNanotechnologyLayer (electronics)

Résumé

récupéré en direct d'OpenAlex

In an integration scheme where the nFETs and pFETs of CMOS devices are silicided with different materials (Dual Silicides), rare-earth erbium (Er) and ytterbium (Yb) silicides are potential candidates for contacts to n-Si because of their lower Schottky barrier heights, as compared to more conventional nickel and cobalt silicides. [1-3] Although the lower Schottky barrier across the silicide/n-silicon interface results in reduced contact resistivity, the microstructure can exhibit defects and morphology issues [3-7] which affect device integrity and may contribute to contact resistance degradation. [8] In this study, we compared the material and integration properties of Er and Yb silicides with those of Ni (Pt-alloyed) silicide. Using four point probe, AFM, optical inspection and SEM, we compared the silicides using sheet resistance, surface morphology, defects density and ease of formation in narrow lines. We found that the silicide morphology is affected by several process parameters such as the type of metal deposition process (sputtering vs. evaporated) and the anneal formation temperature. The silicides were also tested for their ability to withstand aggressive processing after their formation. The processes tested included exposure to PECVD plasma, contact hole reactive ion etching and forming-gas annealing. The rare-earth and Ni(Pt) silicides showed similar stability upon processing. Lastly, we quantified the residual metal remaining on dielectric surfaces after silicide processing. Overall, Er silicide showed better performance than Yb silicide. By optimizing various elements of the silicidation process, higher quality silicide films can be achieved for evaluation as suitable nFet contacts.

Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.

Prédiction distillée sur la base complète

Imitation des enseignants

Ni prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.

score de la tête « metaresearch » (Codex)0,000
score de la tête « metaresearch » (Gemma)0,000
Version: codex-gemma-dda1882f352aStatut de validation: machine_predicted_unvalidated
Catégories candidatesaucune
Catégories consensuellesaucune
DomaineSignal candidat: aucune · Signal consensuel: aucune
Devis d'étudeSignal candidat: Expérimental (laboratoire) · Signal consensuel: Expérimental (laboratoire)
GenreSignal candidat: Empirique · Signal consensuel: Empirique
Score de désaccord entre enseignants0,008
Score d'incertitude au seuil0,339

Scores Codex et Gemma par catégorie

CatégorieCodexGemma
Métarecherche0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens strict)0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens large)0,0000,000
Bibliométrie0,0000,000
Études des sciences et des technologies0,0000,000
Communication savante0,0000,000
Science ouverte0,0000,000
Intégrité de la recherche0,0000,000
Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger)0,0000,000

Scores machine (provisoires)

Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.

Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.

Tête enseignante Opus0,013
Tête enseignante GPT0,252
Écart entre enseignants0,238 · la distance entre les deux têtes enseignantes sur ce seul travail
Statut de validationscore_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle