Simulation of electron beam lithography of nanostructures
Notice bibliographique
Résumé
The authors report a numeric simulation tool that they developed for the modeling and analysis of electron beam lithography (EBL) of nanostructures employing a popular positive tone resist polymethylmethacrylate (PMMA). Modeling and process design for EBL fabrication of 5–50 nm PMMA structures on solid substrates is the target purpose of the simulator. The simulator is functional for exposure energies from 1 to 50 keV with arbitrary writing geometries. The authors employ a suite of kinetic models for the traveling of primary, secondary, and backscattered electrons in the resist, compute three-dimensional (3D) distributions of the yield of main-chain scission in PMMA, and convert these into the local volume fractions of fragments of various sizes. The kinetic process of development is described by the movement of the resist-developer interface with the rate derived from the mean-field theory of polymer diffusion. The EBL simulator allows the computation of detailed 3D distributions of the yield of main-chain scission in PMMA for various conditions of exposure, the corresponding volume fractions of small fragments, and the clearance profiles as functions of the development in time and temperature. This article describes the models employed to simulate the EBL exposure and development, reports examples of the computations, and presents comparisons of the predicted development profiles with experimental cross-sectional resist profiles in dense gratings.
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Comment cette classification a été obtenuedéplier
Prédiction machine sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Le volet Gemma est une étiquette directe du modèle pour chaque travail de la base, lue sur la notice réduite au titre. Le volet Codex est un classifieur appris des 10 348 étiquettes directes de Codex et calibré sur les taux pondérés de l'échantillon; les champs sans appui suffisant ne portent aucun appel Codex. Le mode candidate est l'union des deux volets; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont pas des étiquettes humaines.
Scores du classifieur distillé par catégorie (deux têtes)
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,000 | 0,002 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,001 | 0,001 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,000 | 0,000 |
| Science ouverte | 0,001 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,001 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,002 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découleClassification
machine, non validéePrédiction automatique; un appel candidat d’une seule source (Gemma direct ou Codex distillé), pas un consensus.
Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».