Stress Development during the Reactive Formation of Silicide Films
Pourquoi ce travail est dans la base
Une base qui oublie comment elle a trouvé un travail ne peut pas être vérifiée. Voici les voies qui ont admis celui-ci.
Notice bibliographique
Résumé
Abstract. Thin metal films react with silicon substrates to form various metal silicides. The sequence and kinetics of phase formation are still an area of intense research. Comparatively much less work has been done on the issue of stress development caused by the appearance of these new phases. A detailed review of the subject has been done ten years ago. We present here recent results obtained on Pd-Si, Co-Si, Ni-Si and discuss them in the light of what is known today on the elastic and plastic properties of thin films. A simple model published by S.- L. Zhang and F. M. d’Heurle takes into account the simultaneous stress formation due to the reaction and the relaxation of these stresses. It provides a qualitatively satisfying picture of stress evolution at least for the first phase which forms. The model relies on two basic elements: 1) stress formation due to the formation of a new phase, and 2) the stress relaxation mechanism at work in the growing silicide film. The sign of the stress can be understood from the variation in volume that occurs at the growing interface(s). The stress relaxation mechanisms at work in a growing film are complex. They are highly dependent on the microstructure (as we have shown when comparing Pd/Si(001) and Pd/Si (111)) but should be also highly size dependent (e.g. dislocation glide is more difficult in small scale structures). Inhomogeneous plastic relaxation in polycrystalline silicide films may be an important issue.
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Prédiction distillée sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.
Scores Codex et Gemma par catégorie
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,001 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,001 | 0,001 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,001 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,002 | 0,000 |
| Communication savante | 0,000 | 0,002 |
| Science ouverte | 0,001 | 0,004 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,000 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle