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Enregistrement W2118834669 · doi:10.1504/ijmtm.2005.006842

Roughness characterisation of gas phase micromachining process suitable for fabricating silicon based microsystems

2005· article· en· W2118834669 sur OpenAlexfundno aff
Muthukumaran Packirisamy, Ion Stiharu, Luis Flores

Notice bibliographique

RevueInternational Journal of Manufacturing Technology and Management · 2005
Typearticle
Langueen
DomaineEngineering
ThématiqueAdvanced MEMS and NEMS Technologies
Établissements canadiensnon disponible
Organismes subventionnairesIndustry Canada
Mots-clésSurface micromachiningMicrosystemMicroelectromechanical systemsMaterials scienceBulk micromachiningSurface roughnessMicroelectronicsFabricationEtching (microfabrication)Surface finishSemiconductor device fabricationPrecision engineeringMachiningNanotechnologyElectronic engineeringEngineeringMiniaturizationMetallurgyComposite material

Résumé

récupéré en direct d'OpenAlex

Non-conventional or advanced machining techniques are becoming the enabling fabrication techniques for many emerging fields including Micro Electro Mechanical Systems (MEMS) or Microsystems Technology (MST). The processes used for MEMS fabrication include standard semiconductor fabrication processes and emerging micromachining techniques. Among the challenges emerging from the manufacturing of MEMS devices, post-processing seems to be one of the most sensitive issues. The non-traditional common post-processing techniques are bulk micromachining and surface micromachining. It has been a challenge for MEMS designers to develop a micromachining technique that is compatible with IC (Integrated Circuits) processes and also capable of making MEMS structures through both bulk and surface micromachining with acceptable surface roughness requirements. The selected micromachining process should not affect the integrity of the free standing structure due to the reduced selectivity and aggressive etch of the adjacent electronic circuitry. Moreover, the integrity of the released structure, the dynamic properties as well as the electrostatic characteristics, are strongly dependent on the achieved roughness of the surfaces produced by the etching process. Hence, this paper presents the surface roughness characterisation of gas phase micromachining with XeF2 that is suitable for fabricating integrated MEMS with both micromechanical and microelectronics components. This paper also presents some fabricated microsystems using this process.

Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.

Comment cette classification a été obtenuedéplier

Prédiction distillée sur la base complète

Imitation des enseignants

Ni prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.

score de la tête « metaresearch » (Codex)0,000
score de la tête « metaresearch » (Gemma)0,000
Version: codex-gemma-dda1882f352aStatut de validation: machine_predicted_unvalidated
Catégories candidatesaucune
Catégories consensuellesaucune
DomaineSignal candidat: aucune · Signal consensuel: aucune
Devis d'étudeSignal candidat: Expérimental (laboratoire) · Signal consensuel: aucune
GenreSignal candidat: Empirique · Signal consensuel: Empirique
Score de désaccord entre enseignants0,646
Score d'incertitude au seuil0,432

Scores Codex et Gemma par catégorie

CatégorieCodexGemma
Métarecherche0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens strict)0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens large)0,0000,000
Bibliométrie0,0010,000
Études des sciences et des technologies0,0000,000
Communication savante0,0000,000
Science ouverte0,0000,000
Intégrité de la recherche0,0000,000
Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger)0,0000,000

Scores machine (provisoires)

Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.

Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.

Tête enseignante Opus0,009
Tête enseignante GPT0,272
Écart entre enseignants0,263 · la distance entre les deux têtes enseignantes sur ce seul travail
Statut de validationscore_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle

Classification

machine, non validée

Prédiction automatique; un appel candidat d’une seule tête enseignante, pas un consensus.

Les modèles n’ont appliqué aucune catégorie : rien dans la taxonomie ne correspondait à ce travail.
Devis d'étudeExpérimental (laboratoire)
Domainenon disponible
GenreEmpirique

Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».

En bref

Citations1
Publié2005
Routes d'admission1
Résumé présentoui

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