Wet-etching of structures with straight facets and adjustable taper into glass substrates
Notice bibliographique
Résumé
Wet etching of glass by hydrofluoric acid is widely used in microfabrication, but is limited by the isotropic nature of the process that leads to rounded sidewalls and a 90 degrees angle between the etch front and the surface of the substrate. For many applications such as microvalving, or for further processing such as spin-coating, well controlled, gently sloping sidewalls are often preferred. Here, we present a new approach for forming straight facets and for adjusting the sidewall angle in wet-etched glass substrates by controlling the lateral dissolution of an etch mask during etching. The etch mask comprises a Ti-Au bilayer where Au serves to protect the Ti. During isotropic etching of glass by HF the Ti layer is etched away laterally at the same time, which leads to straight, gently sloping sidewalls. We introduce two methods for controlling the sidewall angle. The first one is based on adjusting the thickness of Ti which controls the lateral etch rate, and thus the angle; the thinner the Ti, the slower its lateral etch rate and the steeper the angle in the etched glass. The second method involves a cathodic bias applied to the Ti-Au etch mask which again regulates the dissolution rate of Ti; the more negative the bias the slower the lateral etch rate. Both methods offer accurate control of the sidewall angle over a wide range, can be readily integrated into existing fabrication processes, and will be particularly useful for making channels with trapezoidal cross-sections, valve seats with gentle profiles, or for patterning electrodes across and inside of microfluidic channels.
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Comment cette classification a été obtenuedéplier
Prédiction distillée sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.
Scores Codex et Gemma par catégorie
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,000 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,000 | 0,000 |
| Science ouverte | 0,000 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,000 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découleClassification
machine, non validéePrédiction automatique; un appel candidat d’une seule tête enseignante, pas un consensus.
Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».