Metal and organic nanostructure fabrication by electron beam lithography and dry liftoff
Notice bibliographique
Résumé
Liftoff and direct etch are the two most popular pattern transfer methods used for nanofabrication. The latter is limited by the etching rate selectivity between the resist and the substrate material, which is usually on the order of unity for dry plasma etching. Moreover, some metals including most noble metals cannot be dry etched. Thus liftoff is often the preferred pattern transfer method. Liftoff is typically carried out using a solvent that dissolves the resist. A strong solvent aided by ultrasonic agitation and/or heating is sometimes needed if the resist is difficult to dissolve due to, for example, cross-linking by exposure to electron beam or plasma. Another serious issue with conventional liftoff process is that the metal debris may stay at the active device area after drying. To avoid the above issues, dry liftoff using mechanical approach may be utilized. Here we report a simple dry liftoff technique using a scotch tape to peel off the resist film coated with the material to lift off. We obtained high resolution (down to 50 nm) liftoff of metal and organic materials polystyrene and Alq3, with PMMA as electron beam resist coated on a substrate treated with a low energy surfactant.
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Comment cette classification a été obtenuedéplier
Prédiction machine sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Le volet Gemma est une étiquette directe du modèle pour chaque travail de la base, lue sur la notice réduite au titre. Le volet Codex est un classifieur appris des 10 348 étiquettes directes de Codex et calibré sur les taux pondérés de l'échantillon; les champs sans appui suffisant ne portent aucun appel Codex. Le mode candidate est l'union des deux volets; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont pas des étiquettes humaines.
Scores du classifieur distillé par catégorie (deux têtes)
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,001 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,001 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,001 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,000 | 0,000 |
| Science ouverte | 0,000 | 0,001 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,001 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,002 | 0,001 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découleClassification
machine, non validéePrédiction automatique; un appel candidat d’une seule source (Gemma direct ou Codex distillé), pas un consensus.
Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».