MétaCan
Menu
Retour à la cohorte
Enregistrement W2596114548 · doi:10.1116/1.4978025

Threading dislocations in MBE grown AlInSb metamorphic buffers: Revealed and counted

2017· article· en· W2596114548 sur OpenAlexafffund
Y. Shi, Denise Gosselink, V. Umansky, J.L. Weyher, Z. R. Wasilewski

Notice bibliographique

RevueJournal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena · 2017
Typearticle
Langueen
DomainePhysics and Astronomy
ThématiqueSemiconductor Quantum Structures and Devices
Établissements canadiensUniversity of Waterloo
Organismes subventionnairesNatural Sciences and Engineering Research Council of Canada
Mots-clésMaterials scienceDifferential interference contrast microscopyDislocationTransmission electron microscopyScanning electron microscopeEtching (microfabrication)Metamorphic rockThreading (protein sequence)Scanning transmission electron microscopyOptoelectronicsCrystallographyMicroscopyOpticsNanotechnologyComposite materialChemistry

Résumé

récupéré en direct d'OpenAlex

The authors compare four methods to investigate the threading dislocations (TDs) observed in metamorphic buffers used in the growth of InSb quantum well on GaAs (001) substrates. Three types of buffers with varying number of Al0.24In0.76Sb interlayers (N = 0, 1, and 3) were studied. Cross-sectional scanning transmission electron microscopy (STEM) revealed an effective dislocation filtering by the interlayers. Individual TDs were identified with atomic-force microscopy (AFM) as distinct morphological features of dislocation outcrops on the surface. Threading dislocation density (TDD) is reduced by 1 order of magnitude with three interlayers, consistent with the STEM observation. TDD measured with a scanning electron microscope in electron channeling contrast imaging (ECCI) mode agrees closely with the AFM analysis, except for the N = 0 buffer where the ECCI gives TDD lower by more than a factor of two. The etch pit density of N = 3 buffer, measured with a Nomarski differential interference contrast microscope after defect selective etching (DSE), is almost 1 order of magnitude lower than the TDD measured by AFM and ECCI. Due to the large pit size, the used etching recipe only works well for samples with TDD lower than 107 cm−2. AFM, ECCI, and DSE are excellent alternatives to transmission electron microscopy in the process of metamorphic buffer optimization. The AFM technique offers the additional advantage of high vertical resolution morphology mapping. Such capability is of great importance for the optimization of metamorphic buffers from the perspective of surface smoothness improvement.

Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.

Comment cette classification a été obtenuedéplier

Prédiction distillée sur la base complète

Imitation des enseignants

Ni prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.

score de la tête « metaresearch » (Codex)0,002
score de la tête « metaresearch » (Gemma)0,000
Version: codex-gemma-dda1882f352aStatut de validation: machine_predicted_unvalidated
Catégories candidatesaucune
Catégories consensuellesaucune
DomaineSignal candidat: aucune · Signal consensuel: aucune
Devis d'étudeSignal candidat: Expérimental (laboratoire) · Signal consensuel: Expérimental (laboratoire)
GenreSignal candidat: Empirique · Signal consensuel: Empirique
Score de désaccord entre enseignants0,158
Score d'incertitude au seuil0,903

Scores Codex et Gemma par catégorie

CatégorieCodexGemma
Métarecherche0,0020,000
Méta-épidémiologie (sens strict)0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens large)0,0010,000
Bibliométrie0,0010,000
Études des sciences et des technologies0,0010,002
Communication savante0,0000,001
Science ouverte0,0010,000
Intégrité de la recherche0,0000,000
Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger)0,0000,000

Scores machine (provisoires)

Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.

Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.

Tête enseignante Opus0,018
Tête enseignante GPT0,266
Écart entre enseignants0,248 · la distance entre les deux têtes enseignantes sur ce seul travail
Statut de validationscore_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle

Classification

machine, non validée

Prédiction automatique; un appel candidat d’une seule tête enseignante, pas un consensus.

Les modèles n’ont appliqué aucune catégorie : rien dans la taxonomie ne correspondait à ce travail.
Devis d'étudeExpérimental (laboratoire)
Domainenon disponible
GenreEmpirique

Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».

En bref

Citations4
Publié2017
Routes d'admission2
Résumé présentoui

Explorer davantage

Même revueJournal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and PhenomenaMême sujetSemiconductor Quantum Structures and DevicesTravaux en français237 207