MétaCan
Menu
Retour à la cohorte
Enregistrement W2741489695

The Chemical Vapour Deposition of Tantalum - in long narrow channels

2014· article· en· W2741489695 sur OpenAlexaboutno aff
James Atwoki Mugabi

Notice bibliographique

Revuenon disponible
Typearticle
Langueen
DomaineEarth and Planetary Sciences
Thématiquenanoparticles nucleation surface interactions
Établissements canadiensnon disponible
Organismes subventionnairesnon disponible
Mots-clésTantalumChemical vapor depositionDeposition (geology)Materials scienceTantalum nitrideChemical engineeringChemistryMetallurgyNanotechnologyGeologyEngineering
DOInon disponible

Résumé

récupéré en direct d'OpenAlex

Tantalum’s resistance to corrosion in hot acidic environments and its superior metallic properties have made it a prime solution as a construction material or protective coating to equipment intended for use in such harsh chemical and physical conditions. The high price of tantalum metal limits its use as a construction material for process equipment, with the cheaper alternative being the construction of equipment from steel and then protecting it with a thin but efficacious layer of tantalum. Chemical Vapour Deposition (CVD) is chosen as the most effective process to apply thin corrosion protective layers of tantalum because of the process’ ability to coat complex geometries and its relative ease to control. This work focuses on studying the CVD of tantalum in long narrow channels with the view that the knowledge gained during the project can be used to optimise the commercial coating process that Tantaline A/S and Alfa Laval (Sweden) use to manufacture tantalum coated plate heat exchangers. Experiments are done by coating the inner side of long, thin stainless steel tubes in the temperature range of 700 – 950 °C and pressure range of 25 – 990 mbar while using different reactant concentrations in order to document the effects of these properties on the tantalum deposition rates. A kinetic model is developed upon the foundation of a Computational Fluid Dynamics (CFD) and Thermal model in order to broaden the understanding of the process and to identify the key control parameters. The developed model fits well at temperatures below 900 °C and the entire pressure range, but fails above 900 °C due to a change in reaction mechanism. Furthermore, Scanning Electron Microscope (SEM) imaging is used to show that the morphology of the deposited tantalum has a large dependence on temperature and that there is a major change in morphology between 850 – 900 °C. The effects of system pressure and precursor partial pressure are also studied, and were found to have relevance to the tantalum distribution along the substrates but little effect on the structural morphology of the deposited layer. In the implemented mechanism of reaction, TaCl3 is found to have a lot of relevance such that it is the main precursor to the surface reaction and that the overall deposition rates follow its abundance. An experiment with a real plate heat exchanger is also done and the corresponding model implemented with satisfactory results.

Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.

Comment cette classification a été obtenuedéplier

Prédiction distillée sur la base complète

Imitation des enseignants

Ni prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.

score de la tête « metaresearch » (Codex)0,000
score de la tête « metaresearch » (Gemma)0,000
Version: codex-gemma-dda1882f352aStatut de validation: machine_predicted_unvalidated
Catégories candidatesaucune
Catégories consensuellesaucune
DomaineSignal candidat: aucune · Signal consensuel: aucune
Devis d'étudeSignal candidat: Observationnel · Signal consensuel: Observationnel
GenreSignal candidat: Empirique · Signal consensuel: Empirique
Score de désaccord entre enseignants0,299
Score d'incertitude au seuil0,748

Scores Codex et Gemma par catégorie

CatégorieCodexGemma
Métarecherche0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens strict)0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens large)0,0000,000
Bibliométrie0,0000,000
Études des sciences et des technologies0,0000,000
Communication savante0,0000,000
Science ouverte0,0000,000
Intégrité de la recherche0,0000,000
Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger)0,0010,000

Scores machine (provisoires)

Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.

Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.

Tête enseignante Opus0,008
Tête enseignante GPT0,216
Écart entre enseignants0,207 · la distance entre les deux têtes enseignantes sur ce seul travail
Statut de validationscore_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle

Classification

machine, non validée

Prédiction automatique; un appel candidat d’une seule tête enseignante, pas un consensus.

Les modèles n’ont appliqué aucune catégorie : rien dans la taxonomie ne correspondait à ce travail.
Devis d'étudeObservationnel
Domainenon disponible
GenreEmpirique

Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».

En bref

Citations2
Publié2014
Routes d'admission1
Résumé présentoui

Explorer davantage

Même sujetnanoparticles nucleation surface interactionsTravaux en français237 207