Investigation for the structural stress of SiO2 thin films and its distribution on the large-wafer created by plasma enhanced chemical vapor deposition
Notice bibliographique
Résumé
For a multilayered configuration of SiO2 film created by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD), the thermal stress and growth-caused stress are two intrinsic stresses. In this work, based on the interactions of all the layers of film, a nonlinearly distributed structural stress over a large substrate is found. The numerical simulations for the nonlinear distribution of the structural stress and the uniform distributions of the two intrinsic stresses are carried out. As a result, the tensile structural stress decreases by ∼4x105MPa from center to edge of a 6” silicon wafer and the compressive growth-caused stress increases by ∼5x105MPa corresponding to the growth-rate increase of 40nm/s, which matches a ∼120MPa distribution of residual compressive stress obtained with in-situ measurements of film samples. In simulations, it is also discovered that the initial curvature of substrate has an impressive influence on the later grown film.
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Comment cette classification a été obtenuedéplier
Prédiction machine sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Le volet Gemma est une étiquette directe du modèle pour chaque travail de la base, lue sur la notice réduite au titre. Le volet Codex est un classifieur appris des 10 348 étiquettes directes de Codex et calibré sur les taux pondérés de l'échantillon; les champs sans appui suffisant ne portent aucun appel Codex. Le mode candidate est l'union des deux volets; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont pas des étiquettes humaines.
Scores du classifieur distillé par catégorie (deux têtes)
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,000 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,000 | 0,000 |
| Science ouverte | 0,000 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,001 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découleClassification
machine, non validéePrédiction automatique; un appel candidat d’une seule source (Gemma direct ou Codex distillé), pas un consensus.
Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».