Nanofabrication of plasmonic structures on insulating substrates by resist-on-metal bilayer lift-off
Notice bibliographique
Résumé
In last few decades, micro- and nano-fabrication techniques based on photolithography and electron beam lithography have advanced greatly, mainly in the field of semiconductor fabrication. Such techniques are generally transferrable to the fabrication of plasmonic structures and metamaterials. However, plasmonic devices often require a transparent insulating substrate to be operational at visible or near-infrared wavelengths. Here we report a resist-on-metal bilayer lift-off technique enabling the fabrication of plasmonic structures on insulating substrates. The metal layer under the resist eliminates major difficulties in lithography, such as charging during electron beam exposure and uncontrolled diffuse optical scattering during photolithography. In addition, the resist-on-metal bilayer can be migrated to different substrates with minimal process alteration, because the material properties of the substrate, such as secondary electron emission or optical reflectance, become irrelevant due to the shielding provided by the metal layer. As demonstrations, we fabricate large-scale plasmonic waveguides and Bragg gratings, adiabatically-modulated plasmonic waveguide couplers, and plasmonic nanoantenna arrays using the resist-on-metal bilayer lift-off process. The process can also be used to define structures formed of other materials such as dielectrics.
Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.
Comment cette classification a été obtenuedéplier
Prédiction distillée sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.
Scores Codex et Gemma par catégorie
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,000 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,001 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,000 | 0,000 |
| Science ouverte | 0,000 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,001 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,000 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découleClassification
machine, non validéePrédiction automatique; un appel candidat d’une seule tête enseignante, pas un consensus.
Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».