Deformation driven by deep and distant structures: Influence of a mantle lithosphere suture in the Ouachita orogeny, southeastern United States
Notice bibliographique
Résumé
Mantle lithosphere heterogeneities are well documented, are ubiquitous, and have often been thought to control lithosphere-scale deformation. Here, we explore the influence of deep scarring in crustal deformation in three dimensions by considering the Ouachita orogeny in the southeastern United States, an example of a continental collision where mantle structure is present but not previously linked to the regional crustal tectonics. We present state-of-the-art continental compressional models in the presence of inherited three-dimensional lithospheric structure. Our models find that the surface expression of the Ouachita orogeny is localized by, and projected from, the controlling mantle scarring, in keeping with geological and geophysical observations. We are able to produce a large-scale arcuate orogeny with associated basin development appropriate to the Ouachita orogeny, alongside smaller-scale crustal faulting related to the region. This study offers a new and alternative hypothesis to the tectonic history of the Ouachita orogeny, with previous research having focused exclusively on crustal structures. The findings have broad implications, demonstrating the important potential role of the mantle lithosphere in controlling crustal dynamics and highlighting the requirement to consider deeper structure and processes when interpreting tectonic evolution of lithospheric-scale deformation.
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Scores Codex et Gemma par catégorie
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,000 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,000 | 0,000 |
| Science ouverte | 0,000 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,001 | 0,000 |
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