Effect of oxygen plasma cleaning on nonswitching pseudo-Bosch etching of high aspect ratio silicon pillars
Notice bibliographique
Résumé
In dry plasma silicon etching, it is desired to have a high etching rate, a high etching selectivity to mask material, a vertical or controllable sidewall profile, and a smooth sidewall. Since the standard Bosch process (switching between SF6 and C4F8 gases) leads to a wavy/rough sidewall profile, the nonswitching pseudo-Bosch process is developed to give a smooth sidewall needed for nanostructure fabrication. In the process, SF6 and C4F8 gases are introduced to the chamber simultaneously. Here, the authors show that by introducing a periodic oxygen (O2) plasma cleaning step, that is, switching between SF6/C4F8 etching and O2 cleaning, the silicon etching rate can be significantly improved (by up to ∼55%, from 139 to 216 nm/min) without any adverse effect. This is mainly because O2 plasma can remove the fluorocarbon polymer passivation layer at the surface. The etching and cleaning step durations were varied from 5 s to 40 min and from 0 to 60 s, respectively. The fastest etching rates were obtained when the cleaning step takes roughly 10% of the total etching time.
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Comment cette classification a été obtenuedéplier
Prédiction machine sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Le volet Gemma est une étiquette directe du modèle pour chaque travail de la base, lue sur la notice réduite au titre. Le volet Codex est un classifieur appris des 10 348 étiquettes directes de Codex et calibré sur les taux pondérés de l'échantillon; les champs sans appui suffisant ne portent aucun appel Codex. Le mode candidate est l'union des deux volets; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont pas des étiquettes humaines.
Scores du classifieur distillé par catégorie (deux têtes)
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,000 | 0,001 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,000 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,000 | 0,000 |
| Science ouverte | 0,000 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,001 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découleClassification
machine, non validéePrédiction automatique; un appel candidat d’une seule source (Gemma direct ou Codex distillé), pas un consensus.
Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».