Effect of oxygen plasma cleaning on nonswitching pseudo-Bosch etching of high aspect ratio silicon pillars
Notice bibliographique
Résumé
In dry plasma silicon etching, it is desired to have a high etching rate, a high etching selectivity to mask material, a vertical or controllable sidewall profile, and a smooth sidewall. Since the standard Bosch process (switching between SF6 and C4F8 gases) leads to a wavy/rough sidewall profile, the nonswitching pseudo-Bosch process is developed to give a smooth sidewall needed for nanostructure fabrication. In the process, SF6 and C4F8 gases are introduced to the chamber simultaneously. Here, the authors show that by introducing a periodic oxygen (O2) plasma cleaning step, that is, switching between SF6/C4F8 etching and O2 cleaning, the silicon etching rate can be significantly improved (by up to ∼55%, from 139 to 216 nm/min) without any adverse effect. This is mainly because O2 plasma can remove the fluorocarbon polymer passivation layer at the surface. The etching and cleaning step durations were varied from 5 s to 40 min and from 0 to 60 s, respectively. The fastest etching rates were obtained when the cleaning step takes roughly 10% of the total etching time.
Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.
Comment cette classification a été obtenuedéplier
Prédiction distillée sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.
Scores Codex et Gemma par catégorie
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,002 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,001 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,001 | 0,001 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,001 |
| Communication savante | 0,000 | 0,000 |
| Science ouverte | 0,001 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,000 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découleClassification
machine, non validéePrédiction automatique; un appel candidat d’une seule tête enseignante, pas un consensus.
Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».