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Enregistrement W3008650212 · doi:10.1063/1.5113875

Transmission electron microscopy dislocation study of Ge-on-Si films supporting a new lattice-mismatch relaxation mechanism

2020· article· en· W3008650212 sur OpenAlexafffund
Weizhen Wang, Nathaniel J. Quitoriano

Notice bibliographique

RevueJournal of Applied Physics · 2020
Typearticle
Langueen
DomaineEngineering
ThématiqueThin-Film Transistor Technologies
Établissements canadiensMcGill University
Organismes subventionnairesNatural Sciences and Engineering Research Council of CanadaMcGill University
Mots-clésDislocationTransmission electron microscopyNucleationMaterials scienceEpitaxyCrystallographyRelaxation (psychology)Condensed matter physicsThin filmGermaniumSiliconNanotechnologyOptoelectronicsComposite materialChemistryLayer (electronics)Physics

Résumé

récupéré en direct d'OpenAlex

We present an in-depth study of Ge(Si), Ge with a potential for some Si, films grown laterally on Si using plan-view transmission electron microscopy (TEM). Earlier, we reported that high-quality Ge films can be grown on Si by using a metal-catalyzed, lateral epitaxial growth technique. In particular, the lateral overgrowth areas of the films demonstrated a much lower dislocation density compared to the first-to-nucleate areas in cross-sectional TEM. Here, we further studied both the film and dislocation morphologies in plan-view TEM to understand more about the growth process and relaxation mechanism. For a film closely studied in plan-view TEM, the center of the film was thicker and contained much more dislocations and there were some thickness variations near the edges. For the central thicker region, the composition was analyzed and three areas within the film were found to be relatively Si-rich and are, therefore, likely to be one of the first-to-nucleate parts of the film. We investigated the dislocation morphology in depth in this film, counting dislocation numbers in both the Si-rich/first-to-nucleate and lateral overgrowth areas of the film. This study indicates that the Si-rich areas contained high dislocation densities (108 or 109 #/cm2), at least one or two magnitudes higher than that of the lateral overgrowth areas, and many dislocations were found to originate from them and extend toward the edge of the film. The observations in this study provide more evidence to support the idea that a new relaxation is present to enable high-quality, lateral Ge growth on Si.

Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.

Comment cette classification a été obtenuedéplier

Prédiction distillée sur la base complète

Imitation des enseignants

Ni prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.

score de la tête « metaresearch » (Codex)0,000
score de la tête « metaresearch » (Gemma)0,000
Version: codex-gemma-dda1882f352aStatut de validation: machine_predicted_unvalidated
Catégories candidatesaucune
Catégories consensuellesaucune
DomaineSignal candidat: aucune · Signal consensuel: aucune
Devis d'étudeSignal candidat: Expérimental (laboratoire) · Signal consensuel: Expérimental (laboratoire)
GenreSignal candidat: Empirique · Signal consensuel: Empirique
Score de désaccord entre enseignants0,086
Score d'incertitude au seuil0,688

Scores Codex et Gemma par catégorie

CatégorieCodexGemma
Métarecherche0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens strict)0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens large)0,0000,000
Bibliométrie0,0000,000
Études des sciences et des technologies0,0000,000
Communication savante0,0000,000
Science ouverte0,0000,000
Intégrité de la recherche0,0000,000
Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger)0,0000,000

Scores machine (provisoires)

Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.

Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.

Tête enseignante Opus0,013
Tête enseignante GPT0,245
Écart entre enseignants0,231 · la distance entre les deux têtes enseignantes sur ce seul travail
Statut de validationscore_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle

Classification

machine, non validée

Prédiction automatique; un appel candidat d’une seule tête enseignante, pas un consensus.

Les modèles n’ont appliqué aucune catégorie : rien dans la taxonomie ne correspondait à ce travail.
Devis d'étudeExpérimental (laboratoire)
Domainenon disponible
GenreEmpirique

Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».

En bref

Citations3
Publié2020
Routes d'admission2
Résumé présentoui

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