Multi-step proportional miniaturization to sub-micron dimensions using pre-stressed polymer films
Notice bibliographique
Résumé
The ability to define patterns and fabricate structures at the nanoscale in a scalable manner is crucial not only in integrated circuit fabrication but also in fabrication of nanofluidic devices as well as in nano and micromechanical systems. Top down fabrication at the nanoscale often involves fabrication of a master using a direct write method and then its replication using a variety of methods such as by hot embossing, nanoimprint lithography, or soft lithography. Nevertheless, fabrication of the master is a time consuming and expensive process. One interesting approach is to define patterns at larger dimensions on pre-stressed films using methods such as xurography or lithography which are scalable and heat them to de-stress and shrink which can reduce the size proportionally. Although attractive, suitable fabrication processes that can perform iterative shrinking of patterns over several cycles and into the nanoscale have not been demonstrated. Here, we demonstrate a fabrication process that is capable of accurately producing patterns and features over several cycles of miniaturization and shrinking to achieve resolution in the order of 100 s of nanometers. In this approach, a pattern transfer method is developed by combining soft imprint lithography followed by reactive ion etching, both of which are scalable processes, to transfer the original patterns into a shrinkable polymer film. The patterned shrinkable film is heated to allow thermal shrinking. As a result, the pattern size was decreased by 60% of the original size in a single cycle. This reduced pattern was used as the master for the next cycle and three cycles of miniaturization was demonstrated. Sub-micron patterns of 750 nm were generated by the multi-step miniaturization method, showing approximately 20× reduction in size of the original patterns. Finally, these patterns are transferred into features on a silicon substrate to demonstrate its application in semiconductor microfabrication or its use as a master template for microsystems applications.
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Comment cette classification a été obtenuedéplier
Prédiction distillée sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.
Scores Codex et Gemma par catégorie
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,000 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,000 | 0,000 |
| Science ouverte | 0,000 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,000 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découleClassification
machine, non validéePrédiction automatique; un appel candidat d’une seule tête enseignante, pas un consensus.
Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».