Mechanical stress in InP and GaAs ridges formed by reactive ion etching
Notice bibliographique
Résumé
The mechanical deformation induced by reactive ion etching (RIE) of rectangular ridge waveguides in GaAs and InP has been investigated by photoluminescence and cathodoluminescence techniques. Several trends were identified and are discussed. First, it is concluded that the RIE process itself is the source of the mechanical deformation. A compressive volume change occurs mainly within the ridge (with a maximum close to the vertical etched sidewalls), extending outside the ridges, up to several micrometers below the bottom etched surface. An anisotropic deformation also appears, again mainly close to the etched sidewalls and below the bottom etched surface. A narrow area under tensile stress was also identified, localized outside the ridges and in a shallow region below the bottom etched surface. Cumulative, overlapping effects are seen inside the ridges where the compressive stress fields originating at the vertical etched sidewalls contribute to an overall compression inside the ridge which increases as the ridge width decreases. In addition, a tensile stress is also observed outside the ridge, strongly enhanced by the presence of neighboring ridges. These conclusions are significant for the design of photonic structures. Because of the photoelastic effect, which is important in GaAs and InP, the properties of devices such as waveguides might be affected by the mechanical stress described herein.
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Comment cette classification a été obtenuedéplier
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Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.
Scores Codex et Gemma par catégorie
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,000 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,000 | 0,000 |
| Science ouverte | 0,000 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,000 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découleClassification
machine, non validéePrédiction automatique; un appel candidat d’une seule tête enseignante, pas un consensus.
Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».