Low-Temperature Self-Aligned-Silicide-Capable Transistor Process Using Solid-Phase-Epitaxy and Lift-Off for Hybrid Substrates
Notice bibliographique
Résumé
Details of a large-area-compatible sub-600 °C process for the fabrication of high mobility field-effect transistors on single crystalline silicon are presented. It is shown that lift-off and solid-phase-epitaxy (SPE) can be used in conjunction with plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) to create MOSFET transistors with mobilities comparable to other high-performance techniques. Furthermore, use of an amorphous silicon/silicon oxynitride (SiOxNy) sacrificial bilayer is shown to make the process capable of self-aligned silicidation. The topography of the deposition is studied using cross-sectional scanning electron microscopy (SEM). It is shown that a successful lift-off can be achieved through the proper design of the sacrificial bilayer despite the high degree of step coverage generally exhibited by PECVD films. Cross-sectional transmission electron microscopy (TEM) is used to reveal the microstructure of the epitaxy and silicidation. Current-voltage characteristics of the fabricated transistors are presented and the field effect mobility of electrons on the fabricated devices is reported. The developed process is particularly useful in applications where high mobility transistors need to be built on silicon/nonsilicon hybrid platforms that exclude high processing temperatures.
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Comment cette classification a été obtenuedéplier
Prédiction distillée sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.
Scores Codex et Gemma par catégorie
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,001 | 0,001 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,001 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,000 | 0,001 |
| Science ouverte | 0,000 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,000 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découleClassification
machine, non validéePrédiction automatique; un appel candidat d’une seule tête enseignante, pas un consensus.
Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».