Thin films residual stress profile evaluation using test microstructures: Illustrated on an example of AlN film
Notice bibliographique
Résumé
In this study, we investigate the residual stress gradient of aluminum nitride thin film deposited by reactive pulse DC magnetron sputtering technique on a 200 mm diameter silicon wafer with a 1 μm layer of plasma enhanced chemical vapor deposition tetraethylorthosilicate. Stress measurements are obtained using in situ fabricated rotational beam microstructures. The rotating beam moves in response to relief of the residual stress on the connecting arms that experience lengthening or shortening due to compressive or tensile residual stresses, respectively. Various arm-beam connecting joints, separation gaps between the arms, and arm lengths are considered to determine the optimum microstructure for localized residual stress evaluation of the sputtered aluminum nitride. The displacement of the rotating beams with four different arm-beam connecting-joint designs is analytically modeled using COMSOL multiphysics finite element method simulation. The results of the analytical model were found to be in agreement with the results observed through experiments. The stress gradient measurements obtained using the microstructures are compared to the Stoney stress evaluated using a wafer bow technique. Although the predicted Stoney stress shows a 220 MPa tensile residual stress, the observed trend in localized stress values shows that the maximum stress is 280 MPa at the center of the wafer and reduces to about 100 MPa at the edge of the wafer.
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Comment cette classification a été obtenuedéplier
Prédiction machine sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Le volet Gemma est une étiquette directe du modèle pour chaque travail de la base, lue sur la notice réduite au titre. Le volet Codex est un classifieur appris des 10 348 étiquettes directes de Codex et calibré sur les taux pondérés de l'échantillon; les champs sans appui suffisant ne portent aucun appel Codex. Le mode candidate est l'union des deux volets; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont pas des étiquettes humaines.
Scores du classifieur distillé par catégorie (deux têtes)
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,000 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,000 | 0,000 |
| Science ouverte | 0,000 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,001 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découleClassification
machine, non validéePrédiction automatique; un appel candidat d’une seule source (Gemma direct ou Codex distillé), pas un consensus.
Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».