Helium ion beam lithography and liftoff
Pourquoi ce travail est dans la base
Une base qui oublie comment elle a trouvé un travail ne peut pas être vérifiée. Voici les voies qui ont admis celui-ci.
Notice bibliographique
Résumé
Abstract We introduce a helium ion beam lithography and liftoff process to fabricate arbitrary nanostructures. Exploiting existing high-resolution positive tone resists such as poly (methyl methacrylate) (PMMA), the process offers three significant advantages over electron beam lithography: (a) the exposing helium ion beam produces a high secondary electron yield leading to fast patterning, (b) proximity effects are negligible due to the low count of backscattered helium ions from the substrate, and (c) the process is transferrable with minimal alteration among different types of substrates (e.g. silicon, fused silica). The process can be used to pattern any material compatible with liftoff such as evaporated metals or dielectrics, and allows overlay of nanostructures precision-aligned to microstructures realised beforehand on the same substrate. The process is demonstrated for several PMMA thicknesses to liftoff different thicknesses of deposited material. Resolution trials are conducted to determine the limits of the process for each PMMA thickness. Isolated lines as narrow as 14 nm, and line-space gratings of 40 nm pitch (50% duty cycle), are produced as resolution tests by lifting off a 20 nm thick Au film. Nanostructures of aspect ratio up to ∼3:1 have been realised. Plasmonic nanoantenna arrays overlaid to microscale contacts are produced as device demonstrators, for which optical measurements are in excellent agreement with theory.
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Prédiction distillée sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.
Scores Codex et Gemma par catégorie
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,000 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,000 | 0,000 |
| Science ouverte | 0,000 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,000 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle