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Enregistrement W4242750331 · doi:10.1149/ma2014-01/39/1439

(Invited) Spatial ALD, Deposition of Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub> Films at Throughputs Exceeding 3000 Wafers per Hour

2014· article· en· W4242750331 sur OpenAlex

Pourquoi ce travail est dans la base

Une base qui oublie comment elle a trouvé un travail ne peut pas être vérifiée. Voici les voies qui ont admis celui-ci.

affAu moins un auteur déclare une institution canadienne dans l'instantané OpenAlex épinglé.

Notice bibliographique

RevueECS Meeting Abstracts · 2014
Typearticle
Langueen
DomaineEngineering
ThématiqueEngineering Applied Research
Établissements canadiensCégep de Lévis
Organismes subventionnairesnon disponible
Mots-clésPassivationAtomic layer depositionWaferDangling bondDielectricMaterials scienceSemiconductorOptoelectronicsNanotechnologySemiconductor device fabricationThin filmEngineering physicsLayer (electronics)SiliconPhysics

Résumé

récupéré en direct d'OpenAlex

During the last few years various types of ALD films have successfully been introduced in high-volume manufacturing in a number of industries. Particularly in the semiconductor industry the implementation is wide spread (high-k gate stacks, capacitor dielectrics, diffusion barriers, etc.). More recently a specific type of ALD film, Al 2 O 3 , was widely researched as a potential surface passivation layer for solar cell surfaces in the PV industry. Thin (&lt; 10nm) Al 2 O 3 films passivate p-type surfaces very effectively. On the one hand intrinsic negative charges in the dielectric film repel charge carriers, while on the other hand hydrogen that is present in the ALD films passivates dangling bonds at the Si/SiO 2 / Al 2 O 3 interface. The combination of both effects reduces the charge recombination losses considerably. The overall result is an increase in cell efficiency of 0.5-1% (absolute). Based on extensive testing of these films, it is to be expected that Implementation in PV manufacturing will take place in the near future. There is a large difference in film and process requirements of ALD films applied in the semiconductor and PV industries. Whereas uniformity and defects (particles) are very important in the IC industry this is much less so in PV. Much more important in the PV industry are cost and throughput. Typical numbers for both industries are a Cost of Ownership of 2-10 vs. 0.02-0.05$/wafer, respectively, and 10-50 vs 1500-2500 wfrs/hr.. As ALD processes are notoriously slow, ways must be found to increase the throughputs considerably. This is done by either using batch furnaces loaded with 500-1000 wafers per batch, or in-line systems in which wafers are loaded, processed and unloaded in a continuous flow of 0.5-0.8 wafers/s. The latter type of system is based on the so-called spatial ALD process. An example is shown in the figure. In this system (Levitrack) wafers are loaded in a track in which zones with precursors TMA and H 2 O are spatially separated by zones of inert gas. While floating on a gas cushion, the wafers pass ALD ‘cells’ with fixed sequences of TMA and water, adding a thin layer of Al 2 O 3 with each passage through a cell. The advantages of this approach are several: high throughput, atmospheric processing, no deposition on the inside walls of the track, no moving parts such as valves, pumps, etc. Typical results obtained with this system are: film uniformity 3-4%, life time of solar cell charge carriers &gt; 3ms, efficiency enhancement 0.4-0.8%, CoO ~ 0.04$/wfr. In the paper more details will be provided on the economy of this type of system, as well as on film characteristics and efficiency enhancements realized in a variety of solar cell structures.

Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.

Prédiction distillée sur la base complète

Imitation des enseignants

Ni prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.

score de la tête « metaresearch » (Codex)0,001
score de la tête « metaresearch » (Gemma)0,000
Version: codex-gemma-dda1882f352aStatut de validation: machine_predicted_unvalidated
Catégories candidatesMéta-épidémiologie (sens strict)
Catégories consensuellesaucune
DomaineSignal candidat: aucune · Signal consensuel: aucune
Devis d'étudeSignal candidat: Expérimental (laboratoire) · Signal consensuel: Expérimental (laboratoire)
GenreSignal candidat: Empirique · Signal consensuel: Empirique
Score de désaccord entre enseignants0,316
Score d'incertitude au seuil1,000

Scores Codex et Gemma par catégorie

CatégorieCodexGemma
Métarecherche0,0010,000
Méta-épidémiologie (sens strict)0,0010,001
Méta-épidémiologie (sens large)0,0010,000
Bibliométrie0,0000,000
Études des sciences et des technologies0,0000,000
Communication savante0,0000,000
Science ouverte0,0000,000
Intégrité de la recherche0,0000,001
Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger)0,0000,000

Scores machine (provisoires)

Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.

Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.

Tête enseignante Opus0,009
Tête enseignante GPT0,214
Écart entre enseignants0,204 · la distance entre les deux têtes enseignantes sur ce seul travail
Statut de validationscore_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle