Ordered silicon nanocone fabrication by using pseudo-Bosch process and maskless etching
Notice bibliographique
Résumé
Nanocone arrays are widely employed for applications such as antireflection structures and field emission devices. Silicon nanocones are typically obtained by an etching process, but the profile is hard to attain because anisotropic dry etching generally gives vertical or only slightly tapered sidewall profiles, and isotropic dry plasma etching gives curved sidewalls. In this work, we report the fabrication of cone structures by using masked etching followed by maskless etching techniques. The silicon structure is first etched using fluorine-based plasma under the protection of a hard metal mask, with a tapered or vertical sidewall profile. The mask is then removed, and maskless etching with an optimized nonswitching pseudo-Bosch recipe is applied to achieve the cone structure with a sharp apex. The gas flow ratio of C4F8 and SF6 is significantly increased from 38:22 (which creates a vertical profile) to 56:4, creating a taper angle of approximately 80°. After subsequent maskless etching, the sidewall taper angle is decreased to 74°, and the structure is sharpened to give a pointed apex. The effect of an oxygen cleaning step is also studied. With the introduction of periodic oxygen plasma cleaning steps, both the etch rate and surface smoothness are greatly improved. Lastly, it was found that the aspect ratio-dependent etching effect becomes prominent for dense patterns of cone arrays, with a greatly reduced etch depth at a 600 nm pitch array compared to a 1200 nm pitch array.
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Comment cette classification a été obtenuedéplier
Prédiction distillée sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.
Scores Codex et Gemma par catégorie
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,001 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,000 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,001 | 0,001 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,001 |
| Communication savante | 0,000 | 0,000 |
| Science ouverte | 0,000 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,000 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découleClassification
machine, non validéePrédiction automatique; un appel candidat d’une seule tête enseignante, pas un consensus.
Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».