Spatially resolved luminescence properties of etched quantum well microstructures
Notice bibliographique
Résumé
Ridge microstructures were prepared by etching through samples consisting of a series of stacked InAsxP1−x quantum wells (QWs) with step graded composition grown on InP by molecular beam epitaxy. Different etching techniques were used: wet etching with HCl/H2O and reactive ion etching with CH4/H2. These microstructures were characterized by low-temperature micro-photoluminescence. The photoluminescence (PL) emission associated with each QW was clearly identified. The PL was measured in detail across etched ridge stripes of various widths. Variations of the integrated PL intensities across the etched stripes were observed. The PL intensities for all QWs increase gradually from the edge to the center of the ridge microstructures. The PL intensity measured at the ridge center is systematically reduced for ridges which are 10 or 20 μm wide as compared to ridges which are 30 μm wide or larger. On the other hand, the spectral peak position of the PL lines remained constant with high accuracy (0.2–0.4 meV) across the microstructures. These observations are discussed in terms of the different possible mechanisms which determine the PL intensity variations, namely, non-radiative recombination at the etched walls and effects of stray electric fields which result from the etching process. Based on this discussion, we compare quantitatively the different etching processes which we have used. Altogether, this study illustrates the contribution that specially designed test structures, coupled with advanced spectroscopic characterization, can provide to the development of semiconductor photonic devices (e.g., lasers or waveguides) involving etching processes.
Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.
Comment cette classification a été obtenuedéplier
Prédiction machine sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Le volet Gemma est une étiquette directe du modèle pour chaque travail de la base, lue sur la notice réduite au titre. Le volet Codex est un classifieur appris des 10 348 étiquettes directes de Codex et calibré sur les taux pondérés de l'échantillon; les champs sans appui suffisant ne portent aucun appel Codex. Le mode candidate est l'union des deux volets; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont pas des étiquettes humaines.
Scores du classifieur distillé par catégorie (deux têtes)
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,000 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,000 | 0,000 |
| Science ouverte | 0,000 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,000 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découleClassification
machine, non validéePrédiction automatique; un appel candidat d’une seule source (Gemma direct ou Codex distillé), pas un consensus.
Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».