Atmospheric Pressure Spatial Atomic Layer Deposition of Silicon Oxide Using DIPAS and Ozone
Notice bibliographique
Résumé
Silicon oxide (SiO x ) is a highly versatile material used in different applications. However, its conventional growth and deposition methods often require a very high temperature or the use of plasma. In this work, we present a plasma-free, low-temperature process for depositing high-quality SiO x thin films using atmospheric-pressure spatial atomic layer deposition (AP-SALD). An aminodisilane precursor, diisopropylaminosilane (SiH 3 N(C 3 H 7 ) 2, DIPAS), was synthesized and tested with different oxidants, such as ozone and 30% hydrogen peroxide aqueous solution. Initial attempts with hydrogen peroxide solution resulted in precursor condensation and the formation of nanocrystallite SiO x contaminated with organic molecules, indicating that the deposition process is oxidant-limited. In contrast, using ozone as the oxidant facilitated the deposition of high-quality amorphous SiO x films. The microstructure was highly dependent on the deposition temperature, transitioning from nanocrystallites at lower temperatures to amorphous films at temperatures of 70–100 °C. X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) confirmed the deposition of SiO x films at 70 °C or above using ozone, and the growth per cycle was ∼1 Å/cycle, consistent with ALD of SiO x . This work shows that high-quality SiO x films can be produced by AP-SALD using DIPAS and ozone, without the aid of plasma or any surface functionalization, at low growth temperatures ( T ≥ 70 °C).
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Comment cette classification a été obtenuedéplier
Prédiction distillée sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.
Scores Codex et Gemma par catégorie
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,000 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,000 | 0,000 |
| Science ouverte | 0,000 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,000 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découleClassification
machine, non validéePrédiction automatique; un appel candidat d’une seule tête enseignante, pas un consensus.
Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».