Atmospheric Pressure Spatial Atomic Layer Deposition of Silicon Oxide Using DIPAS and Ozone
Notice bibliographique
Résumé
Silicon oxide (SiO x ) is a highly versatile material used in different applications. However, its conventional growth and deposition methods often require a very high temperature or the use of plasma. In this work, we present a plasma-free, low-temperature process for depositing high-quality SiO x thin films using atmospheric-pressure spatial atomic layer deposition (AP-SALD). An aminodisilane precursor, diisopropylaminosilane (SiH 3 N(C 3 H 7 ) 2, DIPAS), was synthesized and tested with different oxidants, such as ozone and 30% hydrogen peroxide aqueous solution. Initial attempts with hydrogen peroxide solution resulted in precursor condensation and the formation of nanocrystallite SiO x contaminated with organic molecules, indicating that the deposition process is oxidant-limited. In contrast, using ozone as the oxidant facilitated the deposition of high-quality amorphous SiO x films. The microstructure was highly dependent on the deposition temperature, transitioning from nanocrystallites at lower temperatures to amorphous films at temperatures of 70–100 °C. X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) confirmed the deposition of SiO x films at 70 °C or above using ozone, and the growth per cycle was ∼1 Å/cycle, consistent with ALD of SiO x . This work shows that high-quality SiO x films can be produced by AP-SALD using DIPAS and ozone, without the aid of plasma or any surface functionalization, at low growth temperatures ( T ≥ 70 °C).
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Comment cette classification a été obtenuedéplier
Prédiction machine sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Le volet Gemma est une étiquette directe du modèle pour chaque travail de la base, lue sur la notice réduite au titre. Le volet Codex est un classifieur appris des 10 348 étiquettes directes de Codex et calibré sur les taux pondérés de l'échantillon; les champs sans appui suffisant ne portent aucun appel Codex. Le mode candidate est l'union des deux volets; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont pas des étiquettes humaines.
Scores du classifieur distillé par catégorie (deux têtes)
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,000 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,000 | 0,000 |
| Science ouverte | 0,000 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,001 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découleClassification
machine, non validéePrédiction automatique; un appel candidat d’une seule source (Gemma direct ou Codex distillé), pas un consensus.
Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».