Hydrogenated microcrystalline silicon thin film growth in the DC saddle field PECVD system
Notice bibliographique
Résumé
Hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) and microcrystalline silicon (muc-Si:H) thin films were grown at the threshold of the amorphous-to-microcrystalline phase transition in a modified direct current (DC) saddle field plasma enhanced chemical vapour deposition (SF-PECVD) system. For the first time, the microcrystalline content of the resulting films was successfully controlled through direct manipulation of the substrate surface bias during growth. This effect was quantified for multiple pressures. The as-grown microcrystalline content and the laser-induced crystallization of the films was quantified using Raman scattering spectroscopy. The optoelectronic and morphological properties of the films were measured. These measurements included UV-Vis and IR spectroscopy, temperature-dependent four-point conductivity, photoluminescence, atomic force microscopy, and spectroscopic ellipsometry. All measurements correlated well with the microcrystalline content of the films. The growth of muc-Si:H in an ion-bombarding environment was modeled using a general formalism applicable to all methods of muc-Si:H growth. The simulation results of the model showed good qualitative agreement to experimental findings from this work as well as the literature. The operation of the SF-PECVD system using a large-area externally applied substrate bias was examined under varying conditions and new limitations to the large area application of substrate bias were discovered. Three previously unidentified plasma operation regimes were identified that explain the role of substrate bias in controlling microcrystalline growth. A methodology for the design of SF-PECVD systems for the growth of muc-Si:H was described.
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Comment cette classification a été obtenuedéplier
Prédiction machine sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Le volet Gemma est une étiquette directe du modèle pour chaque travail de la base, lue sur la notice réduite au titre. Le volet Codex est un classifieur appris des 10 348 étiquettes directes de Codex et calibré sur les taux pondérés de l'échantillon; les champs sans appui suffisant ne portent aucun appel Codex. Le mode candidate est l'union des deux volets; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont pas des étiquettes humaines.
Scores du classifieur distillé par catégorie (deux têtes)
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,000 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,000 | 0,000 |
| Science ouverte | 0,000 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,001 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découleClassification
machine, non validéePrédiction automatique; un appel candidat d’une seule source (Gemma direct ou Codex distillé), pas un consensus.
Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».