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Enregistrement W7132993688

Hydrogenated microcrystalline silicon thin film growth in the DC saddle field PECVD system

2006· dissertation· W7132993688 sur OpenAlexfundno aff
Erik Verne Johnson

Notice bibliographique

RevueTSpace · 2006
Typedissertation
Langue
DomaineEngineering
ThématiqueThin-Film Transistor Technologies
Établissements canadiensnon disponible
Organismes subventionnairesNatural Sciences and Engineering Research Council of Canada
Mots-clésPlasma-enhanced chemical vapor depositionMicrocrystalline siliconThin filmSubstrate (aquarium)Raman scatteringSiliconAmorphous siliconMicrocrystalline
DOInon disponible

Résumé

récupéré en direct d'OpenAlex

Hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) and microcrystalline silicon (muc-Si:H) thin films were grown at the threshold of the amorphous-to-microcrystalline phase transition in a modified direct current (DC) saddle field plasma enhanced chemical vapour deposition (SF-PECVD) system. For the first time, the microcrystalline content of the resulting films was successfully controlled through direct manipulation of the substrate surface bias during growth. This effect was quantified for multiple pressures. The as-grown microcrystalline content and the laser-induced crystallization of the films was quantified using Raman scattering spectroscopy. The optoelectronic and morphological properties of the films were measured. These measurements included UV-Vis and IR spectroscopy, temperature-dependent four-point conductivity, photoluminescence, atomic force microscopy, and spectroscopic ellipsometry. All measurements correlated well with the microcrystalline content of the films. The growth of muc-Si:H in an ion-bombarding environment was modeled using a general formalism applicable to all methods of muc-Si:H growth. The simulation results of the model showed good qualitative agreement to experimental findings from this work as well as the literature. The operation of the SF-PECVD system using a large-area externally applied substrate bias was examined under varying conditions and new limitations to the large area application of substrate bias were discovered. Three previously unidentified plasma operation regimes were identified that explain the role of substrate bias in controlling microcrystalline growth. A methodology for the design of SF-PECVD systems for the growth of muc-Si:H was described.

Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.

Comment cette classification a été obtenuedéplier

Prédiction distillée sur la base complète

Imitation des enseignants

Ni prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.

score de la tête « metaresearch » (Codex)0,001
score de la tête « metaresearch » (Gemma)0,000
Version: codex-gemma-dda1882f352aStatut de validation: machine_predicted_unvalidated
Catégories candidatesMéta-épidémiologie (sens strict), Intégrité de la recherche
Catégories consensuellesIntégrité de la recherche
DomaineSignal candidat: aucune · Signal consensuel: aucune
Devis d'étudeSignal candidat: Expérimental (laboratoire) · Signal consensuel: Expérimental (laboratoire)
GenreSignal candidat: Empirique · Signal consensuel: Empirique
Score de désaccord entre enseignants0,099
Score d'incertitude au seuil1,000

Scores Codex et Gemma par catégorie

CatégorieCodexGemma
Métarecherche0,0010,000
Méta-épidémiologie (sens strict)0,0010,001
Méta-épidémiologie (sens large)0,0010,000
Bibliométrie0,0010,001
Études des sciences et des technologies0,0000,000
Communication savante0,0000,000
Science ouverte0,0020,000
Intégrité de la recherche0,0020,002
Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger)0,0000,000

Scores machine (provisoires)

Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.

Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.

Tête enseignante Opus0,008
Tête enseignante GPT0,236
Écart entre enseignants0,228 · la distance entre les deux têtes enseignantes sur ce seul travail
Statut de validationscore_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle

Classification

machine, non validée

Prédiction automatique; les deux têtes enseignantes s’accordent sur ce qui est montré ici.

Devis d'étudeExpérimental (laboratoire)
Domainenon disponible
GenreEmpirique

Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».

En bref

Citations0
Publié2006
Routes d'admission1
Résumé présentoui

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