Cryogenic shallow reactive ion etch process for profile control on silicon on insulator platform
Notice bibliographique
Résumé
A cryogenic reactive ion etch (RIE) process is presented to fabricate shallow two-dimensional photonic crystal type dense pattern microstructures (usually with thickness less than 500 nm and with low aspect ratios ∼1–4) on a silicon on insulator (SOI) platform. Deep RIE etching of silicon has been previously investigated particularly with respect to etch rate, etch profile, and selectivity. While using an oxide layer as an etch stop has also been investigated, the profile control near the oxide interface is usually not very important due to the large aspect ratios. However, for shallow structures with low aspect ratios, profile control near the oxide interface is important while the etch rate and the selectivity are not as much of a concern. The authors show how the presence of an insulating layer close to the silicon etch surface makes the cryogenic etch process different from that of bulk silicon in many respects. Under these circumstances, the effects of various etch process parameters, including O2 flow, capacitively coupled rf power, substrate temperature, and chamber pressure on the etch profile quality were studied systematically on the SOI platform. The results are contrasted with bulk silicon cryogenic etching.
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Comment cette classification a été obtenuedéplier
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Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.
Scores Codex et Gemma par catégorie
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,002 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,001 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,001 | 0,001 |
| Études des sciences et des technologies | 0,001 | 0,001 |
| Communication savante | 0,000 | 0,000 |
| Science ouverte | 0,001 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,000 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découleClassification
machine, non validéePrédiction automatique; un appel candidat d’une seule tête enseignante, pas un consensus.
Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».