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Enregistrement W1983528079 · doi:10.1116/1.582169

Dual-doped TMAH silicon etchant for microelectromechanical structures and systems applications

2000· article· en· W1983528079 sur OpenAlex

Pourquoi ce travail est dans la base

Une base qui oublie comment elle a trouvé un travail ne peut pas être vérifiée. Voici les voies qui ont admis celui-ci.

affAu moins un auteur déclare une institution canadienne dans l'instantané OpenAlex épinglé.
fundUn bailleur canadien est enregistré sur le travail.

Notice bibliographique

RevueJournal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films · 2000
Typearticle
Langueen
DomaineEngineering
ThématiqueAdvanced Surface Polishing Techniques
Établissements canadiensConcordia University
Organismes subventionnairesConcordia University
Mots-clésSiliconMaterials scienceEtching (microfabrication)Microelectromechanical systemsAmmonium hydroxidePassivationSurface micromachiningZincateDopingEtch pit densityPolishingHillockAluminiumChemical engineeringOptoelectronicsFabricationNanotechnologyComposite materialMetallurgyInorganic chemistryChemistryZincLayer (electronics)

Résumé

récupéré en direct d'OpenAlex

Tetra-methyl ammonium-hydroxide (TMAH), is an anisotropic silicon etchant that is gaining considerable use in silicon micromachining due to its excellent silicon etch rate, etch selectivity to masking layers, degree of anisotropy, and relatively low toxicity. However, a shortcoming of TMAH is that it aggressively etches exposed aluminum layers. A dual-doped low concentration TMAH solution is presented, which incorporates a silicate additive for aluminum passivation and an oxidizer additive for improving etch rate and surface quality. Using etch and under-etch experiments, the dual-doped 5 wt % TMAH solution is shown to have characteristics comparable to those of high concentration TMAH solutions with the added benefit of improved etch rate, smoother etched surfaces, and selectivity to silicon over aluminum. Such an etchant can find effective use in batch fabrication and integration of microelectromechanical systems within the framework of standard foundry processes.

Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.

Prédiction distillée sur la base complète

Imitation des enseignants

Ni prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.

score de la tête « metaresearch » (Codex)0,001
score de la tête « metaresearch » (Gemma)0,000
Version: codex-gemma-dda1882f352aStatut de validation: machine_predicted_unvalidated
Catégories candidatesaucune
Catégories consensuellesaucune
DomaineSignal candidat: aucune · Signal consensuel: aucune
Devis d'étudeSignal candidat: Expérimental (laboratoire) · Signal consensuel: Expérimental (laboratoire)
GenreSignal candidat: Empirique · Signal consensuel: Empirique
Score de désaccord entre enseignants0,257
Score d'incertitude au seuil0,820

Scores Codex et Gemma par catégorie

CatégorieCodexGemma
Métarecherche0,0010,000
Méta-épidémiologie (sens strict)0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens large)0,0000,000
Bibliométrie0,0010,001
Études des sciences et des technologies0,0000,001
Communication savante0,0000,001
Science ouverte0,0000,000
Intégrité de la recherche0,0000,000
Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger)0,0000,000

Scores machine (provisoires)

Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.

Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.

Tête enseignante Opus0,008
Tête enseignante GPT0,252
Écart entre enseignants0,244 · la distance entre les deux têtes enseignantes sur ce seul travail
Statut de validationscore_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle