Understanding Pattern Collapse in Photolithography Process Due to Capillary Forces
Notice bibliographique
Résumé
Photolithography is the most widely used mass nanoproduction process. Technology requirements demand smaller nanodevices. However, smaller features risk collapse during the drying of rinse liquid because of capillary forces. In the present study, progress is made on two fronts: (i) The importance of surface tension force (STF) on three-phase line on the pattern collapse is investigated. The STF was ignored in previous pattern collapse studies. It is found that inclusion of STF increases the pattern deformation. The calculated deformation error from neglecting STF increases by increasing contact angle, pattern height to width ratio, and trough to width ratio. The deformation error decreases with an increase in elasticity module of pattern. (ii) A more accurate representation for the interface curvature (and related Laplace pressure), that is, using Surface Evolver (SE) simulation rather than cylindrical interface model (CIM), is presented. Curvature values of two-line parallel and box-shaped patterns are derived from SE and compared with the curvature values from CIM. It was found that CIM for the case of two-line parallel overestimates the curvature value and for the case of box-shaped underestimates it. SE simulations also showed that the error of calculating curvature values using CIM for both shapes is only a function of LAR (ratio of pattern length to trough width). For LAR values less than 20, the curvature values from CIM are not accurate for calculating pattern deformation.
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Comment cette classification a été obtenuedéplier
Prédiction machine sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Le volet Gemma est une étiquette directe du modèle pour chaque travail de la base, lue sur la notice réduite au titre. Le volet Codex est un classifieur appris des 10 348 étiquettes directes de Codex et calibré sur les taux pondérés de l'échantillon; les champs sans appui suffisant ne portent aucun appel Codex. Le mode candidate est l'union des deux volets; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont pas des étiquettes humaines.
Scores du classifieur distillé par catégorie (deux têtes)
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,000 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,000 | 0,001 |
| Science ouverte | 0,000 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,001 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découleClassification
machine, non validéePrédiction automatique; un appel candidat d’une seule source (Gemma direct ou Codex distillé), pas un consensus.
Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».