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Enregistrement W2007284954 · doi:10.1116/1.582179

120 °C fabrication technology for a-Si:H thin film transistors on flexible polyimide substrates

2000· article· en· W2007284954 sur OpenAlex

Pourquoi ce travail est dans la base

Une base qui oublie comment elle a trouvé un travail ne peut pas être vérifiée. Voici les voies qui ont admis celui-ci.

affAu moins un auteur déclare une institution canadienne dans l'instantané OpenAlex épinglé.
fundUn bailleur canadien est enregistré sur le travail.

Notice bibliographique

RevueJournal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films · 2000
Typearticle
Langueen
DomaineEngineering
ThématiqueThin-Film Transistor Technologies
Établissements canadiensUniversity of Waterloo
Organismes subventionnairesNatural Sciences and Engineering Research Council of Canada
Mots-clésMaterials scienceThin-film transistorSilicon nitrideSilanePassivationAmorphous solidChemical vapor depositionSubstrate (aquarium)Layer (electronics)Amorphous siliconOptoelectronicsEtching (microfabrication)FabricationSiliconPlasma-enhanced chemical vapor depositionNitrideDry etchingThin filmBuffered oxide etchDielectricReactive-ion etchingNanotechnologyCrystalline siliconComposite materialCrystallographyChemistry

Résumé

récupéré en direct d'OpenAlex

In this article, we report a fabrication process for hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) thin film transistors (TFT) at 120 °C on flexible Kapton® substrates for large-area imaging applications. The samples are based on the bottom-gate inverted staggered TFT structure. Initially, both sides of the substrate are coated by amorphous silicon nitride (a-SiNx:H), followed by 120 nm of aluminum (Al) film for the gate. After gate patterning, a trilayer is deposited at 120 °C by plasma-enhanced chemical vapor deposition comprising of 250 nm a-SiNx:H gate dielectric, 50 nm a-Si:H, and 250 nm top (passivation) a-SiNx:H. After opening the contact windows, we deposit 35 nm of n+ a-Si:H at 120 °C. Next, a 1 μm Al top contact layer is deposited. The a-Si:H films are deposited from a gas mixture of silane (SiH4) and hydrogen. For the n+ a-Si:H layer, a hydrogen-diluted (1% PH3+99% SiH4) mixture is used. The a-SiNx:H films are deposited from a helium-diluted mixture of silane, ammonia and nitrogen. Dry etching is used except for the metal layers, where wet etching is used. The TFTs show an off-current less than 10−12 A, and an on-current of more than 10−6 A, thus giving an on/off current ratio greater than 106. The effective device mobility, μeff, is about 0.4 cm2/V s.

Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.

Prédiction distillée sur la base complète

Imitation des enseignants

Ni prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.

score de la tête « metaresearch » (Codex)0,001
score de la tête « metaresearch » (Gemma)0,000
Version: codex-gemma-dda1882f352aStatut de validation: machine_predicted_unvalidated
Catégories candidatesMéta-épidémiologie (sens strict)
Catégories consensuellesaucune
DomaineSignal candidat: aucune · Signal consensuel: aucune
Devis d'étudeSignal candidat: Expérimental (laboratoire) · Signal consensuel: Expérimental (laboratoire)
GenreSignal candidat: Empirique · Signal consensuel: Empirique
Score de désaccord entre enseignants0,054
Score d'incertitude au seuil1,000

Scores Codex et Gemma par catégorie

CatégorieCodexGemma
Métarecherche0,0010,000
Méta-épidémiologie (sens strict)0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens large)0,0010,000
Bibliométrie0,0030,003
Études des sciences et des technologies0,0000,002
Communication savante0,0000,001
Science ouverte0,0010,000
Intégrité de la recherche0,0010,001
Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger)0,0000,000

Scores machine (provisoires)

Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.

Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.

Tête enseignante Opus0,011
Tête enseignante GPT0,231
Écart entre enseignants0,220 · la distance entre les deux têtes enseignantes sur ce seul travail
Statut de validationscore_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle