Growth of high-<i>k</i> silicon oxynitride thin films by means of a pulsed laser deposition-atomic nitrogen plasma source hybrid system for gate dielectric applications
Notice bibliographique
Résumé
High-k silicon oxynitride (SiOxNy) thin films have been successfully grown by means of a hybrid deposition process based on the combination of the pulsed laser deposition (PLD) plume of silicon species in an oxygen background together with a remote plasma-based atomic nitrogen source (ANS). This pulsed laser deposition-atomic nitrogen source (PLD-ANS) hybrid method is found to be highly effective for further nitrogen incorporation into SiOxNy films. At a laser intensity of 2.5×108 W/cm2 and a deposition temperature (Td) of 300 °C, it was shown that the N content of the SiOxNy films could be controlled over a concentration range as wide as 0–35 at. %, by controlling the partial pressure ratio of N to O2 in the deposition chamber. The structural and dielectric properties of the PLD-ANS SiOxNy films were systematically investigated as a function of their N content. Microstructural analyses revealed that the increasing incorporation of N into the SiOxNy films occurs through the formation of Si–N bonds to the detriment of Si–O ones. Both the dielectric constant (k) and the breakdown field of the SiOxNy thin films are found to increase significantly with N content. At the highest N content (35 at. %), the PLD-ANS films exhibit a high k-value of about 9.5 and a breakdown field as high as 19 MV/cm. It appears that Poole–Frenkel emission with compensation is the most predominant conduction mechanism in the SiOxNy films. By enabling control of the N content during deposition, the PLD-ANS approach provides the means to achieve desirable N profile engineering in the SiOxNy dielectric thin films.
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Comment cette classification a été obtenuedéplier
Prédiction machine sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Le volet Gemma est une étiquette directe du modèle pour chaque travail de la base, lue sur la notice réduite au titre. Le volet Codex est un classifieur appris des 10 348 étiquettes directes de Codex et calibré sur les taux pondérés de l'échantillon; les champs sans appui suffisant ne portent aucun appel Codex. Le mode candidate est l'union des deux volets; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont pas des étiquettes humaines.
Scores du classifieur distillé par catégorie (deux têtes)
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,000 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,000 | 0,000 |
| Science ouverte | 0,000 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,000 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découleClassification
machine, non validéePrédiction automatique; un appel candidat d’une seule source (Gemma direct ou Codex distillé), pas un consensus.
Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».