MétaCan
Menu
Retour à la cohorte
Enregistrement W2028365438 · doi:10.1116/1.4873700

Electrochemical etching technique: Conical-long-sharp tungsten tips for nanoapplications

2014· article· en· W2028365438 sur OpenAlexaff
Alaeddin Bani Milhim, Ridha Ben Mrad

Notice bibliographique

RevueJournal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena · 2014
Typearticle
Langueen
DomainePhysics and Astronomy
ThématiqueForce Microscopy Techniques and Applications
Établissements canadiensUniversity of Toronto
Organismes subventionnairesnon disponible
Mots-clésEtching (microfabrication)Materials scienceConical surfaceCathodeTungstenReactive-ion etchingOptoelectronicsDry etchingRadius of curvatureMicroelectromechanical systemsIsotropic etchingOpticsNanotechnologyCurvatureComposite materialElectrical engineeringMetallurgyGeometryEngineering

Résumé

récupéré en direct d'OpenAlex

This paper proposes an electrochemical etching technique to fabricate tungsten tips. Tips combining well-defined conical shape, a length as large as 2 mm, and sharpness with a radius of curvature of around 20 nm are fabricated using the proposed technique. These tips are needed in a variety of applications including multipoint contact measurements and nanomanipulation. The technique consists of three steps: the first is static etching, which creates a neck-in phenomenon on the wire; the second is dynamic etching, where the wire is oscillated up and down in the solution to form a long conical shape; finally, static etching is applied again to break the wire, and thus, sharp tips are produced. The best operating conditions of the process were experimentally obtained. These factors include the position of the cathode, the length of the immersed wire, and the applied voltage. The effects of these factors on the etching current and tip fidelity were also examined based on the measured etching current. In particular, the position of the cathode determines the strength of the electrical field near the air/solution interface; the immersed wire depth determines mainly the equivalent resistance of the process and thus controls the etching current; and the applied voltage defines the etching rate of the wire.

Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.

Comment cette classification a été obtenuedéplier

Prédiction distillée sur la base complète

Imitation des enseignants

Ni prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.

score de la tête « metaresearch » (Codex)0,002
score de la tête « metaresearch » (Gemma)0,000
Version: codex-gemma-dda1882f352aStatut de validation: machine_predicted_unvalidated
Catégories candidatesMéta-épidémiologie (sens strict)
Catégories consensuellesaucune
DomaineSignal candidat: aucune · Signal consensuel: aucune
Devis d'étudeSignal candidat: Expérimental (laboratoire) · Signal consensuel: Expérimental (laboratoire)
GenreSignal candidat: Empirique · Signal consensuel: aucune
Score de désaccord entre enseignants0,596
Score d'incertitude au seuil1,000

Scores Codex et Gemma par catégorie

CatégorieCodexGemma
Métarecherche0,0020,000
Méta-épidémiologie (sens strict)0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens large)0,0010,000
Bibliométrie0,0010,001
Études des sciences et des technologies0,0010,001
Communication savante0,0000,000
Science ouverte0,0010,000
Intégrité de la recherche0,0000,000
Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger)0,0000,000

Scores machine (provisoires)

Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.

Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.

Tête enseignante Opus0,009
Tête enseignante GPT0,260
Écart entre enseignants0,251 · la distance entre les deux têtes enseignantes sur ce seul travail
Statut de validationscore_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle

Classification

machine, non validée

Prédiction automatique; un appel candidat d’une seule tête enseignante, pas un consensus.

Devis d'étudeExpérimental (laboratoire)
Domainenon disponible
GenreEmpirique

Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».

En bref

Citations7
Publié2014
Routes d'admission1
Résumé présentoui

Explorer davantage

Même revueJournal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and PhenomenaMême sujetForce Microscopy Techniques and ApplicationsTravaux en français237 207