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Enregistrement W2029637008 · doi:10.1143/jjap.47.2526

Void-Free Room-Temperature Silicon Wafer Direct Bonding Using Sequential Plasma Activation

2008· article· en· W2029637008 sur OpenAlex

Pourquoi ce travail est dans la base

Une base qui oublie comment elle a trouvé un travail ne peut pas être vérifiée. Voici les voies qui ont admis celui-ci.

fundUn bailleur canadien est enregistré sur le travail.
no affAucune affiliation canadienne : ce travail est invisible pour une base fondée sur la seule affiliation.
Aucune affiliation canadienne. Une base fondée sur la seule affiliation (le devis habituel) n'aurait jamais vu ce travail. C'est l'un des travaux qui justifient l'inversion de la base.

Notice bibliographique

RevueJapanese Journal of Applied Physics · 2008
Typearticle
Langueen
DomaineEngineering
Thématique3D IC and TSV technologies
Établissements canadiensnon disponible
Organismes subventionnairesNatural Sciences and Engineering Research Council of Canada
Mots-clésWaferAnodic bondingPlasma activationMaterials scienceAnnealing (glass)Void (composites)Reactive-ion etchingWafer bondingDirect bondingMicroelectromechanical systemsSiliconComposite materialPlasmaPlasma cleaningEtching (microfabrication)Analytical Chemistry (journal)OptoelectronicsChemistryLayer (electronics)

Résumé

récupéré en direct d'OpenAlex

Room-temperature Si/Si wafer direct bonding has been performed by an optimized sequential plasma activated bonding process. A shorter O2 reactive ion etching (RIE) plasma (∼10 s) treatment followed by treatment with N2 radicals for 60 s is used for surface activation. The activated wafers are brought into contact in ambient air. After storage at room temperature for 24 h, high bonding strength (∼2.25 J/m2) is achieved without requiring any annealing process. This value is close to the bulk-fracture strength of silicon. Furthermore, no annealing voids are observed at Si/Si interfaces even if the bonded wafer pairs are heated from 200 to 800 °C in subsequent processes. The bonding interfaces and their optical transmittances are also investigated. This void-free, room-temperature bonding technique based on sequential plasma activation is inexpensive and suitable for the microelectromechanical system manufacturing process and wafer-scale packaging.

Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.

Prédiction distillée sur la base complète

Imitation des enseignants

Ni prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.

score de la tête « metaresearch » (Codex)0,000
score de la tête « metaresearch » (Gemma)0,000
Version: codex-gemma-dda1882f352aStatut de validation: machine_predicted_unvalidated
Catégories candidatesaucune
Catégories consensuellesaucune
DomaineSignal candidat: aucune · Signal consensuel: aucune
Devis d'étudeSignal candidat: Expérimental (laboratoire) · Signal consensuel: Expérimental (laboratoire)
GenreSignal candidat: Empirique · Signal consensuel: Empirique
Score de désaccord entre enseignants0,117
Score d'incertitude au seuil0,648

Scores Codex et Gemma par catégorie

CatégorieCodexGemma
Métarecherche0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens strict)0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens large)0,0000,000
Bibliométrie0,0000,000
Études des sciences et des technologies0,0000,000
Communication savante0,0000,000
Science ouverte0,0000,000
Intégrité de la recherche0,0000,000
Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger)0,0000,000

Scores machine (provisoires)

Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.

Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.

Tête enseignante Opus0,018
Tête enseignante GPT0,216
Écart entre enseignants0,198 · la distance entre les deux têtes enseignantes sur ce seul travail
Statut de validationscore_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle