Fabrication of thin vertical mirrors through plasma etch and KOH:IPA polishing for integration into MEMS electrostatic actuators
Notice bibliographique
Résumé
We developed a process for the fabrication of thin vertical mirrors as integrated structures of MEMS electrostatic actuators. The mirrors can be implemented as a vertical extension of the actuator sidewall, or can be positioned at any movable part of the actuator. The process involves the fabrication of a mesa structure on the handle layer of a silicon-oninsulator (SOI) wafer through deep reactive ion etching (DRIE). The etch/passivation cycles of the DRIE process were optimized to achieve vertical etch profiles with a depth of up to 200 μm with an aspect ratio of 10:1. The DRIE process introduced typical etch scallops with peak-to-valley and rms roughnesses on the order of 100 nm and 30 nm, respectively. A mask layer was used to pattern a 2.1 μm sacrificial oxide layer for the mesa structure. A second mask layer allowed us to define a large etch cavity for handle layer back-etch. The DRIE etched mesa structure was then etched with diluted potassium hydroxide (KOH) in isopropyl alcohol (IPA). Temperature and etch concentration were optimized for the removal of etch scallops without the formation of ⟨111⟩ etch facets. The etch scallops were almost completely removed and mirror quality surfaces were achieved. The developed mesa structures are suitable for integration into actuators that are patterned in the device layer. A third masking layer, aligned through infrared camera, was used to position the thin vertical mirror at the actuator sidewall. The process provides design flexibility in integrating vertical mirrors of adjustable dimensions to movable elements of MEMS structures.
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Comment cette classification a été obtenuedéplier
Prédiction distillée sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.
Scores Codex et Gemma par catégorie
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,000 | 0,001 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,000 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,000 | 0,002 |
| Science ouverte | 0,001 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,000 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découleClassification
machine, non validéePrédiction automatique; un appel candidat d’une seule tête enseignante, pas un consensus.
Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».