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Enregistrement W2045447816 · doi:10.1116/1.4885500

Etching mechanism of the single-step through-silicon-via dry etch using SF6/C4F8 chemistry

2014· article· en· W2045447816 sur OpenAlexfundno aff
Zihao Ouyang, D. N. Ruzic, Mark Kiehlbauch, Alex Schrinsky, K. Torek

Notice bibliographique

RevueJournal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films · 2014
Typearticle
Langueen
DomaineEngineering
ThématiqueSemiconductor materials and devices
Établissements canadiensnon disponible
Organismes subventionnairesCanadian Bee Research FundMicron Technology
Mots-clésEtching (microfabrication)PlasmaPlasma etchingSiliconDiscontinuity (linguistics)SputteringReactive-ion etchingIonSmoothnessDry etchingChemistryMaterials scienceAnalytical Chemistry (journal)NanotechnologyOptoelectronicsThin filmPhysics

Résumé

récupéré en direct d'OpenAlex

A single-step etching method using the SF6/C4F8 chemistry is developed in this study as an alternative through-silicon-via (TSV) etching approach of the traditional Bosch process to realize ultrasmooth and vertical TSV profiles. Experimental results show that there is a profile discontinuity, or a “transition,” on the TSV profile produced by the single-step etching method at high bias voltages and high SF6 flow rates. Comparison between the intensity of the species generated in a pure SF6 or a pure C4F8 plasma and in a SF6/C4F8 plasma is investigated for better understanding interactions between SF6 and C4F8. The densities of all positive ions are reduced in the SF6/C4F8 plasma compared to a pure SF6 plasma and a pure C4F8 plasma at the same partial pressure, indicating a change of plasma chemistry when SF6 and C4F8 fluxes are mixed. The formation mechanism of the transition is proposed as a chemistry discontinuity caused by large-angle ion sputtering at the top part of the sidewalls and the polymer accumulation at the bottom part of the sidewalls. The formation of the transition has found to have an effect of improving the sidewall smoothness below the position where it is formed. Parameter study has shown that a decreased bias voltage and a reduced SF6/C4F8 ratio can help to improve the sidewall smoothness and eliminate the transition on the TSV profiles.

Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.

Comment cette classification a été obtenuedéplier

Prédiction machine sur la base complète

Imitation des enseignants

Ni prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Le volet Gemma est une étiquette directe du modèle pour chaque travail de la base, lue sur la notice réduite au titre. Le volet Codex est un classifieur appris des 10 348 étiquettes directes de Codex et calibré sur les taux pondérés de l'échantillon; les champs sans appui suffisant ne portent aucun appel Codex. Le mode candidate est l'union des deux volets; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont pas des étiquettes humaines.

score de la tête « metaresearch » (Codex)0,000
score de la tête « metaresearch » (Gemma)0,000
Version: metacan-v3-hybrid-931329e0061cStatut de validation: machine_predicted_unvalidated
Catégories candidatesaucune
Catégories consensuellesaucune
DomaineSignal candidat: aucune · Signal consensuel: aucune
Devis d'étudeSignal candidat: Expérimental (laboratoire) · Signal consensuel: Expérimental (laboratoire)
GenreSignal candidat: Empirique · Signal consensuel: Empirique
Score de désaccord entre enseignants0,001
Score d'incertitude au seuil0,003

Scores du classifieur distillé par catégorie (deux têtes)

CatégorieCodexGemma
Métarecherche0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens strict)0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens large)0,0000,000
Bibliométrie0,0000,000
Études des sciences et des technologies0,0000,000
Communication savante0,0000,000
Science ouverte0,0000,000
Intégrité de la recherche0,0000,000
Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger)0,0010,000

Scores machine (provisoires)

Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.

Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.

Tête enseignante Opus0,012
Tête enseignante GPT0,221
Écart entre enseignants0,210 · la distance entre les deux têtes enseignantes sur ce seul travail
Statut de validationscore_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle

Classification

machine, non validée

Prédiction automatique; un appel candidat d’une seule source (Gemma direct ou Codex distillé), pas un consensus.

Les modèles n’ont appliqué aucune catégorie : rien dans la taxonomie ne correspondait à ce travail.
Devis d'étudeExpérimental (laboratoire)
Domainenon disponible
GenreEmpirique

Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».

En bref

Citations32
Publié2014
Routes d'admission1
Résumé présentoui

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