MétaCan
Menu
Retour à la cohorte
Enregistrement W2059027568 · doi:10.1116/1.2890688

Deep-UV exposure of poly(methyl methacrylate) at 254 nm using low-pressure mercury vapor lamps

2008· article· en· W2059027568 sur OpenAlexaff
Robert W. Johnstone, Ian G. Foulds, M. Parameswaran

Notice bibliographique

RevueJournal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and Phenomena · 2008
Typearticle
Langueen
DomaineEngineering
ThématiqueSemiconductor materials and devices
Établissements canadiensSimon Fraser University
Organismes subventionnairesnon disponible
Mots-clésMaterials scienceMethyl methacrylateMercury (programming language)PhotoresistPoly(methyl methacrylate)Mercury-vapor lampDissolutionWavelengthPolymerOptoelectronicsComposite materialChemistryPolymerizationOrganic chemistry

Résumé

récupéré en direct d'OpenAlex

Poly(methyl methacrylate) (PMMA) is a transparent thermoplastic with important applications as a positive resist for various radiation sources. When used as a photoresist, PMMA is typically used with wavelengths shorter than 240 nm, as that is the commonly accepted upper limit of effectiveness. However, the authors have shown patterning of nonamplified PMMA films at 254 nm, which is significant because 254 nm radiation can be produced using inexpensive low-pressure mercury vapor lamps. Data for the etch depth as a function of exposure dose (0–12 h), developer temperature (20–35 °C), and etch time were collected. Dissolution rates of up to many microns a minute are possible, and the dissolution rate ratio of exposed over unexposed PMMA can reach over 3000. This demonstrates the feasibility of PMMA exposure using deep-UV at 254 nm.

Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.

Comment cette classification a été obtenuedéplier

Prédiction distillée sur la base complète

Imitation des enseignants

Ni prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.

score de la tête « metaresearch » (Codex)0,001
score de la tête « metaresearch » (Gemma)0,000
Version: codex-gemma-dda1882f352aStatut de validation: machine_predicted_unvalidated
Catégories candidatesMéta-épidémiologie (sens strict)
Catégories consensuellesaucune
DomaineSignal candidat: aucune · Signal consensuel: aucune
Devis d'étudeSignal candidat: Expérimental (laboratoire) · Signal consensuel: Expérimental (laboratoire)
GenreSignal candidat: Empirique · Signal consensuel: Empirique
Score de désaccord entre enseignants0,152
Score d'incertitude au seuil1,000

Scores Codex et Gemma par catégorie

CatégorieCodexGemma
Métarecherche0,0010,000
Méta-épidémiologie (sens strict)0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens large)0,0010,000
Bibliométrie0,0010,001
Études des sciences et des technologies0,0000,001
Communication savante0,0000,000
Science ouverte0,0000,000
Intégrité de la recherche0,0000,000
Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger)0,0000,000

Scores machine (provisoires)

Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.

Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.

Tête enseignante Opus0,017
Tête enseignante GPT0,221
Écart entre enseignants0,204 · la distance entre les deux têtes enseignantes sur ce seul travail
Statut de validationscore_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle

Classification

machine, non validée

Prédiction automatique; un appel candidat d’une seule tête enseignante, pas un consensus.

Devis d'étudeExpérimental (laboratoire)
Domainenon disponible
GenreEmpirique

Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».

En bref

Citations32
Publié2008
Routes d'admission1
Résumé présentoui

Explorer davantage

Même revueJournal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures Processing Measurement and PhenomenaMême sujetSemiconductor materials and devicesTravaux en français237 207