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Enregistrement W2062384100 · doi:10.1063/1.2748868

H + ion-implantation energy dependence of electronic transport properties in the MeV range in n-type silicon wafers using frequency-domain photocarrier radiometry

2007· article· en· W2062384100 sur OpenAlex
Chinhua Wang, Andreas Mandelis, J. Tolev, B. Burchard, Jan Meijer

Pourquoi ce travail est dans la base

Une base qui oublie comment elle a trouvé un travail ne peut pas être vérifiée. Voici les voies qui ont admis celui-ci.

affAu moins un auteur déclare une institution canadienne dans l'instantané OpenAlex épinglé.
fundUn bailleur canadien est enregistré sur le travail.

Notice bibliographique

RevueJournal of Applied Physics · 2007
Typearticle
Langueen
DomaineEngineering
ThématiqueSilicon and Solar Cell Technologies
Établissements canadiensUniversity of Toronto
Organismes subventionnairesNatural Sciences and Engineering Research Council of CanadaSuzhou UniversityGovernment of Jiangsu ProvinceAlexander von Humboldt-Stiftung
Mots-clésOverlayerIon implantationMaterials scienceWaferIonSiliconAnalytical Chemistry (journal)DiffusionMolecular physicsOptoelectronicsChemistryPhysical chemistry

Résumé

récupéré en direct d'OpenAlex

Industrial n-type Si wafers (resistivity of 5–10Ωcm) were H+ ion implanted with energies between 0.75 and 2.00MeV, and the electronic transport properties of the implanted layer (recombination lifetime, carrier diffusion coefficient, and front-surface and implanted-interface recombination velocities s1 and s2) were studied using photocarrier radiometry (PCR). A quantitative fitting procedure to the diffusing photoexcited free-carrier density wave was introduced using a relatively simple two-layer PCR model in lieu of the more realistic but substantially more complicated three-layer model. The experimental trends in the transport properties of H+-implanted Si layers extracted from the PCR amplitude and phase data as functions of implantation energy corroborate a physical model of the implanted layer in which (a) overlayer damage due to the light H+ ions decreases with increased depth of implantation at higher energies, (b) the implanted region damage close to the interface is largely decoupled from the overlayer crystallinity, and (c) the concentration of implanted H+ ions decreases at higher implantation energies at the interface, thus decreasing the degree of implantation damage at the interface proper.

Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.

Prédiction distillée sur la base complète

Imitation des enseignants

Ni prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.

score de la tête « metaresearch » (Codex)0,001
score de la tête « metaresearch » (Gemma)0,000
Version: codex-gemma-dda1882f352aStatut de validation: machine_predicted_unvalidated
Catégories candidatesaucune
Catégories consensuellesaucune
DomaineSignal candidat: aucune · Signal consensuel: aucune
Devis d'étudeSignal candidat: Expérimental (laboratoire) · Signal consensuel: Expérimental (laboratoire)
GenreSignal candidat: Empirique · Signal consensuel: Empirique
Score de désaccord entre enseignants0,045
Score d'incertitude au seuil0,372

Scores Codex et Gemma par catégorie

CatégorieCodexGemma
Métarecherche0,0010,000
Méta-épidémiologie (sens strict)0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens large)0,0000,000
Bibliométrie0,0000,001
Études des sciences et des technologies0,0000,000
Communication savante0,0000,000
Science ouverte0,0000,000
Intégrité de la recherche0,0000,000
Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger)0,0000,000

Scores machine (provisoires)

Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.

Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.

Tête enseignante Opus0,016
Tête enseignante GPT0,220
Écart entre enseignants0,205 · la distance entre les deux têtes enseignantes sur ce seul travail
Statut de validationscore_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle