Influence de la température de substrat sur la croissance et les propriétés des films minces de silicium amorphe déposés par pulvérisation cathodique
Notice bibliographique
Résumé
We deposit thin films of a-Si:H by RF diode spray on substrate with temperatures varying from 200 to 500 °C. Knowing that this deposition method is violent when compared with the plasma-assisted deposition method, we have used low RF power to limit the energy of the Ar ions bombarding the surface of the growing film. Characterization of the films by UVvisible absorption spectroscopy suggests that the influence of the substrate temperature can be classified into three different regimes: (i) low temperature, Ts < 300 °C: the films show a strong disorder, the hydrogen is bound only in the polyhydric configuration; (ii) intermediate temperature, 300 °C < Ts < 400 °C: film growth is rapid, the films present a lower defect density; this may be the best regime to make good quality a-Si:H films using the spraying method; (iii) high temperature, Ts > 400 °C: the films are more organized, but less hydrogenated. The substrate temperature influences the film properties by modifying the growing mechanism through a control of the reactions taking place at the plasmasubstrate interface, where the hydrogen dynamics play a fundamental role.[Journal translation]
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Comment cette classification a été obtenuedéplier
Prédiction machine sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Le volet Gemma est une étiquette directe du modèle pour chaque travail de la base, lue sur la notice réduite au titre. Le volet Codex est un classifieur appris des 10 348 étiquettes directes de Codex et calibré sur les taux pondérés de l'échantillon; les champs sans appui suffisant ne portent aucun appel Codex. Le mode candidate est l'union des deux volets; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont pas des étiquettes humaines.
Scores du classifieur distillé par catégorie (deux têtes)
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,000 | 0,001 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,000 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,001 | 0,000 |
| Science ouverte | 0,000 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,001 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découleClassification
machine, non validéePrédiction automatique; un appel candidat d’une seule source (Gemma direct ou Codex distillé), pas un consensus.
Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».