Bimetallic thermal resists potential for double-exposure immersion lithography and grayscale photomasks
Notice bibliographique
Résumé
Double exposure/patterning is considered the best candidate for extending 195nm optical lithography below 40nm resolution. However, double exposure techniques require a resist where the exposures do not add linearly to produce the final result. A class of negative thermal resists that show this effect are bimetallic thin-films consisting of Bi/In or Sn/In. The films are bi-layered structured until sufficiently heated by a laser exposure pulse (7 mJ/sq. cm for 4 nsec). Experiments with interference lithography at 266nm in air demonstrated that Bi/In resists have a resolution limit <42nm, the exposure system limit. As a first investigation into the resist's potential for immersion lithography, the response of bimetallic resists to immersion lithography was examined. The Sn/In film used demonstrated successful development as thermal resist for immersion exposures and the power level required to convert the film was only slightly higher than the level required for exposing the film in air. Bimetallic films have demonstrated transmittances <0.1% when unexposed and >60% when highly exposed to an Argon laser, enabling their application as grayscale photomasks. However, direct laser-writing of the photomasks causes fine variations in their transparency due to the laser beam's Gaussian power profile. To correct this problem, a beam-shaping mask was designed to manipulate the power profile of the laser. To help measure mask transparency at a resolution suitable for characterizing a photomask, two photodiode sensors were added to the writing system. The profiling ability offered by the modified system allows the use of test structures 100x smaller then previously required.
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Comment cette classification a été obtenuedéplier
Prédiction distillée sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.
Scores Codex et Gemma par catégorie
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,001 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,000 | 0,001 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,000 | 0,001 |
| Science ouverte | 0,001 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,000 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découleClassification
machine, non validéePrédiction automatique; un appel candidat d’une seule tête enseignante, pas un consensus.
Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».