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Enregistrement W2310937389

Bimetallic Thermal Resists for Photomask, Micromachining and Microfabrication

2004· dissertation· en· W2310937389 sur OpenAlexfundno aff
Richard Tu

Notice bibliographique

RevueSummit (Simon Fraser University) · 2004
Typedissertation
Langueen
DomaineEngineering
ThématiqueAdvancements in Photolithography Techniques
Établissements canadiensnon disponible
Organismes subventionnairesSimon Fraser University
Mots-clésMicrofabricationResistPhotomaskSurface micromachiningBimetallic stripMaterials scienceNanotechnologyMetallurgyFabricationMetal
DOInon disponible

Résumé

récupéré en direct d'OpenAlex

Photoresists and photomasks are two of the most critical materials in microfabrication and micromachining industries.As the shift towards shorter wavelength exposure continues, conventional organic photoresists and chromelquartz photomasks start to encounter problems.This thesis investigates and presents an alternative to organic photoresists and chromium photomasks which overcomes their intrinsic problems.A bimetallic thin film, such as BilIn and SnIIn, creates an inorganic thermal resist with many interesting properties.Both experiments and simulations demonstrate that this class of thermal resists can be converted by laser exposure with wavelengths from 213 nm to 830 nm, showing wavelength invariance.Simulations of the projected wavelength response show that BiIIn thermal resist works down to the 1 nm X-ray range.Exposed bimetallic thermal resists can be developed in two different acid solutions with excellent selectivity.A standard etch (RCA2) can strip the unexposed bimetallic film when photoresist rework is needed.Exposed bimetallic films are resistant to Si anisotropic wet etching and fluorine, O2 and chlorine plasma etching.The Bi/In thermal resist is the first reported resist that works for both wet chemical anisotropic Si etching and dry plasma etching.All these features make the bimetallic film a complete thermal resist.Another very important property of bimetallic thin films is the largest change in the optical absorption ever reported in the literature (3.0 OD before exposure and 0.22 OD after exposure, 365 nm), with the exposed areas becoming nearly transparent.The transmission of the exposed films depends on the laser writing power.Thus, BilIn resist and its class can be utilized as a direct-write photomask material for both binary and grayscale photomasks.Binary photomasks and grayscale photomasks were successfully created.2D and 3D structures were successfully generated in Shipley organic photoresists using a mercury lamp mask aligner with exposure conditions identical to those for conventional chrome masks.Material analyses show that the transformation after laser exposure of bimetallic thermal resists is an oxidation process.Laser-converted BilIn and S n h oxides have a structure similar to that of indium tin oxide films.

Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.

Comment cette classification a été obtenuedéplier

Prédiction machine sur la base complète

Imitation des enseignants

Ni prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Le volet Gemma est une étiquette directe du modèle pour chaque travail de la base, lue sur la notice réduite au titre. Le volet Codex est un classifieur appris des 10 348 étiquettes directes de Codex et calibré sur les taux pondérés de l'échantillon; les champs sans appui suffisant ne portent aucun appel Codex. Le mode candidate est l'union des deux volets; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont pas des étiquettes humaines.

score de la tête « metaresearch » (Codex)0,000
score de la tête « metaresearch » (Gemma)0,000
Version: metacan-v3-hybrid-931329e0061cStatut de validation: machine_predicted_unvalidated
Catégories candidatesaucune
Catégories consensuellesaucune
DomaineSignal candidat: aucune · Signal consensuel: aucune
Devis d'étudeSignal candidat: Expérimental (laboratoire) · Signal consensuel: Expérimental (laboratoire)
GenreSignal candidat: Méthodes · Signal consensuel: aucune
Score de désaccord entre enseignants0,004
Score d'incertitude au seuil0,013

Scores du classifieur distillé par catégorie (deux têtes)

CatégorieCodexGemma
Métarecherche0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens strict)0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens large)0,0000,000
Bibliométrie0,0000,000
Études des sciences et des technologies0,0000,000
Communication savante0,0000,000
Science ouverte0,0000,000
Intégrité de la recherche0,0000,000
Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger)0,0040,002

Scores machine (provisoires)

Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.

Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.

Tête enseignante Opus0,007
Tête enseignante GPT0,220
Écart entre enseignants0,213 · la distance entre les deux têtes enseignantes sur ce seul travail
Statut de validationscore_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle

Classification

machine, non validée

Prédiction automatique; un appel candidat d’une seule source (Gemma direct ou Codex distillé), pas un consensus.

Les modèles n’ont appliqué aucune catégorie : rien dans la taxonomie ne correspondait à ce travail.
Devis d'étudeExpérimental (laboratoire)
Domainenon disponible
GenreMéthodes

Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».

En bref

Citations8
Publié2004
Routes d'admission1
Résumé présentoui

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