Nanomanufacturing: High-Throughput, Cost-Effective Deposition of Atomic Scale Thin Films via Atmospheric Pressure Spatial Atomic Layer Deposition
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Notice bibliographique
Résumé
The demand for materials and devices with dimensions on the nanometer scale continues to increase. To meet this demand, high-throughput, cost-effective methods for depositing nanoscale thin films are needed. In the past few years, atmospheric pressure spatial atomic layer deposition (AP-SALD) has emerged as a potential nanomanufacturing method that is scalable, open air, and operates at modest temperatures that are compatible with flexible substrates. In this Perspective, we compare AP-SALD to other high-throughput techniques for depositing nanometer-scale thin films, including gravure printing, screen printing, knife-over-edge coating, slot-die coating, inkjet printing, spray deposition, as well as high-throughput sputtering and evaporation. Although AP-SALD does not provide the same patterning capabilities as some of these printing techniques, it offers multiple advantages: it produces continuous, conformal coatings with few defects; it requires minimal thermal treatment of the deposited materials; it provides atomic scale thickness control; it facilitates tuning of material properties; and no vacuum chamber is required, which simplifies maintenance requirements and minimizes the operating cost. Areas for further development are identified, which will allow these advantages to be leveraged: new precursors need to be developed to enable deposition of a wider variety of materials, precursor recycling should be examined, and AP-SALD systems that are high-throughput (roll-to-roll coating speeds of tens or hundreds of meters per minute) and low-maintenance need to be further developed and tested.
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Prédiction distillée sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.
Scores Codex et Gemma par catégorie
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,001 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,000 | 0,000 |
| Science ouverte | 0,000 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,001 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle