Modeling of silicon etching using Bosch process: Effects of oxygen addition on the plasma and surface properties
Notice bibliographique
Résumé
The authors developed a tool using a multiscale approach to simulate the silicon etching using Bosch process. Their study is focused on the analysis of the effect of the oxygen addition to C4F8 plasma during the deposition pulse. This is the complementary study that the authors have recently published which was dedicated to the Bosch process under pure SF6 plasma used in etching pulse and pure C4F8 plasma used in polymer deposition pulse. Parametric study about the effect of the oxygen percentage on the reactive species flux evolution and their impact on the deposition kinetic during the deposition pulse has been performed. The simulation results reveal that for a low %O2 in a C4F8/O2 plasma mixture, the atomic fluorine density increases because of the volume reactions, especially recombinations between CFx and O which favor the production of fluorine. This leads to the decrease of CFx to F flux ratio. Ion energy distribution functions (IEDF) plotting reveals the impact of both %O2 and mass of the positive ions on the IEDF shape. Finally, both the experimental and simulation results show that in their pressure range, the addition of O2 to C4F8 plasma has a weak impact on the silicon etch profile and the etching rate, except for a high %O2 which the etch anisotropy begins to be degraded.
Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.
Comment cette classification a été obtenuedéplier
Prédiction distillée sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.
Scores Codex et Gemma par catégorie
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,000 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,001 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,001 |
| Communication savante | 0,000 | 0,000 |
| Science ouverte | 0,000 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,000 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découleClassification
machine, non validéePrédiction automatique; un appel candidat d’une seule tête enseignante, pas un consensus.
Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».