MétaCan
Menu
Retour à la cohorte
Enregistrement W3017697327 · doi:10.1088/1361-6528/ab8d69

High-energy ion (He <sup>+</sup> , Si <sup>++</sup> , Ga <sup>+</sup> , Au <sup>++</sup> ) interactions with PMMA in ion beam lithography

2020· article· en· W3017697327 sur OpenAlex

Pourquoi ce travail est dans la base

Une base qui oublie comment elle a trouvé un travail ne peut pas être vérifiée. Voici les voies qui ont admis celui-ci.

affAu moins un auteur déclare une institution canadienne dans l'instantané OpenAlex épinglé.

Notice bibliographique

RevueNanotechnology · 2020
Typearticle
Langueen
DomaineEngineering
ThématiqueIon-surface interactions and analysis
Établissements canadiensUniversity of Waterloo
Organismes subventionnairesnon disponible
Mots-clésResistIonMaterials scienceAtomic physicsRecoilAtom (system on chip)Ion beam lithographyIon beamVacancy defectNanotechnologyPhysicsChemistryCrystallography

Résumé

récupéré en direct d'OpenAlex

Abstract Resist-based ion beam lithography has been studied by exposing different species of ions (He + , Si ++ , Ga + and Au ++ ) on 700 and 2000 Å thick poly(methyl methacrylate) (or PMMA) films supported on Si substrates. By comparing the resist sensitivities to different ions and the cross-sectional shapes of the developed features with the simulation outputs from the TRIM (TRansport of Ions in Matter) software, long-chain scissoring in PMMA can be largely attributed to ion-initiated electron cascades (as evaluated by ion energy loss to the electrons) and recoil atom cascades (as evaluated by vacancy distribution in TRIM). The ion-initiated electron cascades contribute more to the resist sensitivity for the lighter ions, while the recoil atom cascades are more important for the heavier ions. A proportional relation between the resist sensitivity and the product of the ion energy loss to electrons and vacancy number is obtained semi-empirically for heavy ions. The He + ion is the only ion species that can travel through and therefore expose the entire 2000-Å thick PMMA resist film, while the heaviest ion, Au ++ , provides the highest resist sensitivity. The effective energy and momentum impartment to the resist by the ion, as revealed by recoil atom cascades and vacancy formation, is important to significantly expanding the material types suitable for ion beam lithography.

Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.

Prédiction distillée sur la base complète

Imitation des enseignants

Ni prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.

score de la tête « metaresearch » (Codex)0,000
score de la tête « metaresearch » (Gemma)0,000
Version: codex-gemma-dda1882f352aStatut de validation: machine_predicted_unvalidated
Catégories candidatesMéta-épidémiologie (sens strict), Intégrité de la recherche, Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger)
Catégories consensuellesMéta-épidémiologie (sens strict), Intégrité de la recherche
DomaineSignal candidat: aucune · Signal consensuel: aucune
Devis d'étudeSignal candidat: Simulation ou modélisation · Signal consensuel: Simulation ou modélisation
GenreSignal candidat: Empirique · Signal consensuel: Empirique
Score de désaccord entre enseignants0,172
Score d'incertitude au seuil1,000

Scores Codex et Gemma par catégorie

CatégorieCodexGemma
Métarecherche0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens strict)0,0020,002
Méta-épidémiologie (sens large)0,0020,001
Bibliométrie0,0030,006
Études des sciences et des technologies0,0010,001
Communication savante0,0000,001
Science ouverte0,0020,001
Intégrité de la recherche0,0020,003
Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger)0,0010,001

Scores machine (provisoires)

Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.

Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.

Tête enseignante Opus0,007
Tête enseignante GPT0,205
Écart entre enseignants0,198 · la distance entre les deux têtes enseignantes sur ce seul travail
Statut de validationscore_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle