A Novel Oxygen-Based Digital Etching Technique for p-GaN/AlGaN Structures without Etch-Stop Layers*
Notice bibliographique
Résumé
A novel O2 plasma-based digital etching technology for p-GaN/AlGaN structures without any etch-stop layer was investigated using an inductively coupled plasma (ICP) etcher, with 100 W ICP power and 40 W rf bias power. Under 40 sccm O2 flow and 3 min oxidation time, the p-GaN etch depth was 3.62 nm per circle. The surface roughness improved from 0.499 to 0.452 nm after digital etching, meaning that no observable damages were caused by this process. Compared to the dry etch only methods with Cl2/Ar/O2 or BCl3/SF6 plasma, this technique smoothed the surface and could efficiently control the etch depth due to its self-limiting characteristic. Furthermore, compared to other digital etching processes with an etch-stop layer, this approach was performed using ICP etcher and less demanding on the epitaxial growth. It was proved to be effective in precisely controlling p-GaN etch depth and surface damages required for high performance p-GaN gate high electron mobility transistors.
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Comment cette classification a été obtenuedéplier
Prédiction machine sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Le volet Gemma est une étiquette directe du modèle pour chaque travail de la base, lue sur la notice réduite au titre. Le volet Codex est un classifieur appris des 10 348 étiquettes directes de Codex et calibré sur les taux pondérés de l'échantillon; les champs sans appui suffisant ne portent aucun appel Codex. Le mode candidate est l'union des deux volets; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont pas des étiquettes humaines.
Scores du classifieur distillé par catégorie (deux têtes)
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,000 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,000 | 0,000 |
| Science ouverte | 0,000 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,001 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découleClassification
machine, non validéePrédiction automatique; un appel candidat d’une seule source (Gemma direct ou Codex distillé), pas un consensus.
Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».