Effect of Glass Substrate on the Film Properties of Poly Silicon by Excimer Laser Annealing
Notice bibliographique
Résumé
This work studies the effect of glass substrate thermal properties on the crystallization behavior and surface topography of polycrystalline silicon (poly-Si) films formed by a XeCl excimer laser annealing of amorphous silicon. Films of 60 nm hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) film were deposited on different glass substrates of varying thermal properties. A 500 nm SiO2 buffer layer was in between the glass and the silicon film. The silicon was crystallized by a XeCl excimer laser. The atomic force microscopy (AFM) and in-plane X-ray diffraction (IPXRD) were used to evaluate the surface topography, the surface roughness, and crystalline in-plane orientation of poly-Si, respectively. Grazing incidence X-ray diffraction (GIXRD) was employed to quantify the residual stress in poly-Si film. The film properties of poly-Si exhibit a small relationship with the glass thermal properties. The higher thermal conductivity of glass retards the poly-Si <111> texture and reduced the residual tensile stress. The higher thermal diffusivity of the glass causes a decline in the poly-Si <111> texture, the surface asymmetry and flatness. A light shield introduced between glass and buffer layer in the low-temperature polycrystalline silicon (LTPS) thin-film transistors (TFTs) structures, further weakens the impact of the glass substrate on excimer laser annealing (ELA) poly-Si properties.
Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.
Comment cette classification a été obtenuedéplier
Prédiction machine sur la base complète
Imitation des enseignantsNi prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Le volet Gemma est une étiquette directe du modèle pour chaque travail de la base, lue sur la notice réduite au titre. Le volet Codex est un classifieur appris des 10 348 étiquettes directes de Codex et calibré sur les taux pondérés de l'échantillon; les champs sans appui suffisant ne portent aucun appel Codex. Le mode candidate est l'union des deux volets; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont pas des étiquettes humaines.
Scores du classifieur distillé par catégorie (deux têtes)
| Catégorie | Codex | Gemma |
|---|---|---|
| Métarecherche | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens strict) | 0,000 | 0,000 |
| Méta-épidémiologie (sens large) | 0,000 | 0,000 |
| Bibliométrie | 0,000 | 0,000 |
| Études des sciences et des technologies | 0,000 | 0,000 |
| Communication savante | 0,000 | 0,000 |
| Science ouverte | 0,000 | 0,000 |
| Intégrité de la recherche | 0,000 | 0,000 |
| Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger) | 0,002 | 0,000 |
Scores machine (provisoires)
Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.
Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.
score_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découleClassification
machine, non validéePrédiction automatique; un appel candidat d’une seule source (Gemma direct ou Codex distillé), pas un consensus.
Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».