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Enregistrement W3097960484 · doi:10.1116/6.0000493

Resolving self-limiting growth in silicon nitride plasma enhanced atomic layer deposition with tris-dimethylamino silane precursor

2020· article· en· W3097960484 sur OpenAlexafffund
Triratna Muneshwar, Ken Cadien

Notice bibliographique

RevueJournal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films · 2020
Typearticle
Langueen
DomaineEngineering
ThématiqueSemiconductor materials and devices
Établissements canadiensUniversity of Alberta
Organismes subventionnairesNatural Sciences and Engineering Research Council of Canada
Mots-clésAtomic layer depositionX-ray photoelectron spectroscopySilaneChemical vapor depositionSubstrate (aquarium)SiliconMaterials scienceSilicon nitrideNitridePlasma-enhanced chemical vapor depositionAnalytical Chemistry (journal)EllipsometryThin filmChemistryNanotechnologyLayer (electronics)Chemical engineeringOptoelectronicsOrganic chemistry

Résumé

récupéré en direct d'OpenAlex

Self-limiting character of the involved surface reactions is essential for highly uniform and conformal growth in atomic layer deposition (ALD). However, the poor conformal coverage (<75%) that is often reported with silicon nitride (SiNx) plasma enhanced ALD (PEALD) processes using metalorganic Si-precursors is confounding. In this article, we report our study of the SiNx PEALD process using the tris-dimethylamino silane (3DMAS) precursor and forming gas (5% H2–95% N2) reactant plasma. For the substrate temperature (Tsub) range of 50 °C ≤ Tsub ≤ 150 °C, growth per cycle (GPC) for SiNx deposition was found to approach saturation at 0.034 ± 0.001 nm/cycle though higher Tsub required longer 3DMAS exposures (tA) for saturation. However, for Tsub > 150 °C, SiNx GPC was seen to increase with tA, indicating nonself-limiting growth from potential chemical vapor deposition-like side reactions emerging at higher temperatures. The refractive index (n) of 2.097 ± 0.003 at 2 eV with an optical bandgap of ∼1.7 eV determined from in situ spectroscopic ellipsometry measurements, and peaks s1 and n1 with ΔBE = 295.42 eV in Si2p and N1s XPS spectra measured on the capped SiNx sample were found to agree with the optical constants and chemical characteristics reported for the silicon nitride material. SiNx films deposited at Tsub = 250 °C (nonself-limiting) were found to be more resistant to ambient oxidation as compared to SiNx PEALD films grown at Tsub = 100 °C. Although an entire 30 nm thick SiNx PEALD film was oxidized after an unavoidable long ambient exposure, a cross-sectional transmission electron microscope image showed a conformal coverage of 95%–98% in a 3D trench structure with an aspect ratio of 4.5. Furthermore, higher resistance to ambient oxidation in plasma treated of SiNx PEALD films demonstrates a potential of postgrowth treatments to improve desirable material properties without resorting to high-temperature processes.

Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.

Comment cette classification a été obtenuedéplier

Prédiction distillée sur la base complète

Imitation des enseignants

Ni prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.

score de la tête « metaresearch » (Codex)0,001
score de la tête « metaresearch » (Gemma)0,000
Version: codex-gemma-dda1882f352aStatut de validation: machine_predicted_unvalidated
Catégories candidatesaucune
Catégories consensuellesaucune
DomaineSignal candidat: aucune · Signal consensuel: aucune
Devis d'étudeSignal candidat: Expérimental (laboratoire) · Signal consensuel: Expérimental (laboratoire)
GenreSignal candidat: Empirique · Signal consensuel: Empirique
Score de désaccord entre enseignants0,018
Score d'incertitude au seuil0,814

Scores Codex et Gemma par catégorie

CatégorieCodexGemma
Métarecherche0,0010,000
Méta-épidémiologie (sens strict)0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens large)0,0010,000
Bibliométrie0,0010,001
Études des sciences et des technologies0,0000,000
Communication savante0,0000,001
Science ouverte0,0000,000
Intégrité de la recherche0,0000,000
Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger)0,0000,000

Scores machine (provisoires)

Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.

Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.

Tête enseignante Opus0,010
Tête enseignante GPT0,213
Écart entre enseignants0,203 · la distance entre les deux têtes enseignantes sur ce seul travail
Statut de validationscore_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle

Classification

machine, non validée

Prédiction automatique; un appel candidat d’une seule tête enseignante, pas un consensus.

Les modèles n’ont appliqué aucune catégorie : rien dans la taxonomie ne correspondait à ce travail.
Devis d'étudeExpérimental (laboratoire)
Domainenon disponible
GenreEmpirique

Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».

En bref

Citations2
Publié2020
Routes d'admission2
Résumé présentoui

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