MétaCan
Menu
Retour à la cohorte
Enregistrement W4200339154 · doi:10.1116/6.0001278

Hybrid cross correlation and line-scan alignment strategy for CMOS chips electron-beam lithography processing

2021· article· en· W4200339154 sur OpenAlexafffund
Raphaël Dawant, Robyn Seils, Serge Ecoffey, Rainer Schmid, Dominique Drouin

Notice bibliographique

RevueJournal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena · 2021
Typearticle
Langueen
DomaineEngineering
ThématiqueAdvancements in Photolithography Techniques
Établissements canadiensInstitut interdisciplinaire d'innovation technologiqueUniversité de Sherbrooke
Organismes subventionnairesNatural Sciences and Engineering Research Council of CanadaMitacs
Mots-clésCMOSOffset (computer science)LithographyElectron-beam lithographyAutocorrelationMaskless lithographyMaterials scienceCross-correlationBack end of lineOpticsOptoelectronicsComputer sciencePhysicsResistNanotechnologyMathematics

Résumé

récupéré en direct d'OpenAlex

In this paper, we show an alignment strategy based on a hybrid strategy using cross correlation and line-scan alignment to address the challenge for CMOS integrated circuit postprocessing using electron-beam lithography. Due to design rules imposed by the foundries at the 130 nm node and below, classical line-scan alignment is not possible, and marker shapes are limited. The shape of the marker is essential for cross-correlation alignment. By measuring accurately the alignment offset between two lithography steps with different marker shapes compatible with the design rules, we tested the influence of the marker shape in the performance of the cross-correlation alignment. We present a method based on a white noise generated array to design high-performance markers for cross correlation, compatible with CMOS technology, by increasing the sharpness of their autocorrelation peak. We show that the alignment performances can even be improved using a hybrid strategy with cross-correlation and line-scan alignment and reaches a mean offset of 5.2 nm on a CMOS substrate.

Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.

Comment cette classification a été obtenuedéplier

Prédiction machine sur la base complète

Imitation des enseignants

Ni prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Le volet Gemma est une étiquette directe du modèle pour chaque travail de la base, lue sur la notice réduite au titre. Le volet Codex est un classifieur appris des 10 348 étiquettes directes de Codex et calibré sur les taux pondérés de l'échantillon; les champs sans appui suffisant ne portent aucun appel Codex. Le mode candidate est l'union des deux volets; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont pas des étiquettes humaines.

score de la tête « metaresearch » (Codex)0,000
score de la tête « metaresearch » (Gemma)0,000
Version: metacan-v3-hybrid-931329e0061cStatut de validation: machine_predicted_unvalidated
Catégories candidatesaucune
Catégories consensuellesaucune
DomaineSignal candidat: aucune · Signal consensuel: aucune
Devis d'étudeSignal candidat: Expérimental (laboratoire) · Signal consensuel: Expérimental (laboratoire)
GenreSignal candidat: Empirique · Signal consensuel: aucune
Score de désaccord entre enseignants0,001
Score d'incertitude au seuil0,003

Scores du classifieur distillé par catégorie (deux têtes)

CatégorieCodexGemma
Métarecherche0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens strict)0,0010,000
Méta-épidémiologie (sens large)0,0000,000
Bibliométrie0,0000,001
Études des sciences et des technologies0,0000,000
Communication savante0,0000,001
Science ouverte0,0010,001
Intégrité de la recherche0,0000,000
Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger)0,0010,001

Scores machine (provisoires)

Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.

Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.

Tête enseignante Opus0,014
Tête enseignante GPT0,260
Écart entre enseignants0,246 · la distance entre les deux têtes enseignantes sur ce seul travail
Statut de validationscore_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle

Classification

machine, non validée

Prédiction automatique; un appel candidat d’une seule source (Gemma direct ou Codex distillé), pas un consensus.

Les modèles n’ont appliqué aucune catégorie : rien dans la taxonomie ne correspondait à ce travail.
Devis d'étudeExpérimental (laboratoire)
Domainenon disponible
GenreEmpirique

Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».

En bref

Citations0
Publié2021
Routes d'admission2
Résumé présentoui

Explorer davantage

Même revueJournal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and PhenomenaMême sujetAdvancements in Photolithography TechniquesTravaux en français237 207