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Enregistrement W4235305223 · doi:10.1117/3.601520.ch11

Lithography Costs

2009· book-chapter· en· W4235305223 sur OpenAlex

Pourquoi ce travail est dans la base

Une base qui oublie comment elle a trouvé un travail ne peut pas être vérifiée. Voici les voies qui ont admis celui-ci.

affAu moins un auteur déclare une institution canadienne dans l'instantané OpenAlex épinglé.

Notice bibliographique

RevueSPIE eBooks · 2009
Typebook-chapter
Langueen
DomaineEngineering
ThématiqueAdvancements in Photolithography Techniques
Établissements canadiensAdvanced Micro Devices (Canada)
Organismes subventionnairesnon disponible
Mots-clésLithographyNext-generation lithographyPhotolithographyComputational lithographyReticleX-ray lithographyManufacturing engineeringWaferComputer scienceEngineeringNanotechnologyMaterials scienceElectrical engineeringResistElectron-beam lithography

Résumé

récupéré en direct d'OpenAlex

11.1 Cost of ownership The high price tags of exposure tools have made the cost of lithography a concern since the advent of projection lithography, and lithography costs may ultimately limit patterning capability, more so than technical challenges. while there will always be a market for electronics where price is secondary to performance, the large personal computer and portable phone markets have proven to be extremely elastic. To meet the demands of the consumer, lithography will need to be cost-effective, in addition to providing technical capability. Lithography costs have several components. Among them are: (1) Capital equipment costs, throughput, and utilization (2) Consumables, such as photochemicals (3) Masks (4) Rework and yield (5) Metrology (6) Maintenance (7) Labor (8) Facilities These factors can be considered in various degrees of sophistication. A detailed cost of ownership model was generated by Sematech, and an enhanced version of this model is commercially available. In this chapter, the basic components of such cost-of-ownership models are introduced and discussed. Lithography tools are often the most expensive in the wafer fab. Even when they are not, the fact that lithography is required for patterning many layers in IC manufacturing processes, while most other tools are used for only a few steps, means that a large number of lithography tools are needed for each wafer fab, resulting in high total costs for lithography equipment. Wafer steppers are the most expensive pieces of equipment in the lithography tool set. Their prices have increased by an average of 17% per year since they were introduced in the late 1970s, to the point where leading-edge step-and-scan systems now cost close to $20M, and their prices are projected to increase in the future (Fig. 11.1 and Fig. 11.2). Because equipment costs are so central to economic considerations, the cost of lithography is usually referred to as “cost of ownership.”

Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.

Prédiction distillée sur la base complète

Imitation des enseignants

Ni prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.

score de la tête « metaresearch » (Codex)0,000
score de la tête « metaresearch » (Gemma)0,000
Version: codex-gemma-dda1882f352aStatut de validation: machine_predicted_unvalidated
Catégories candidatesMéta-épidémiologie (sens strict)
Catégories consensuellesaucune
DomaineSignal candidat: aucune · Signal consensuel: aucune
Devis d'étudeSignal candidat: Sans objet · Signal consensuel: aucune
GenreSignal candidat: Autre · Signal consensuel: Autre
Score de désaccord entre enseignants0,878
Score d'incertitude au seuil1,000

Scores Codex et Gemma par catégorie

CatégorieCodexGemma
Métarecherche0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens strict)0,0010,001
Méta-épidémiologie (sens large)0,0000,000
Bibliométrie0,0000,000
Études des sciences et des technologies0,0000,000
Communication savante0,0000,000
Science ouverte0,0000,000
Intégrité de la recherche0,0000,001
Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger)0,0000,000

Scores machine (provisoires)

Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.

Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.

Tête enseignante Opus0,009
Tête enseignante GPT0,223
Écart entre enseignants0,214 · la distance entre les deux têtes enseignantes sur ce seul travail
Statut de validationscore_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle