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Enregistrement W4253289787 · doi:10.1002/9783527808465.emc2016.5721

Electron beam lithography for the realization of electron beam vortices with large topological charge ( L=1000ħ)

2016· other· en· W4253289787 sur OpenAlexaff
Erfan Mafakheri, Amir H. Tavabi, Peng‐Han Lu, R. Balboni, Federico Venturi, Claudia Menozzi, Gian Carlo Gazzadi, Stefano Frabboni, Robert W. Boyd, Rafal E. Dunin‐Borkowski, Ebrahim Karimi, Vincenzo Grillo

Notice bibliographique

RevueEuropean Microscopy Congress 2016: Proceedings · 2016
Typeother
Langueen
DomainePhysics and Astronomy
ThématiqueOrbital Angular Momentum in Optics
Établissements canadiensMax Planck - University of Ottawa Centre for Extreme and Quantum PhotonicsUniversity of Ottawa
Organismes subventionnairesnon disponible
Mots-clésElectron-beam lithographyOpticsHolographyElectron holographyElectronLithographyAperture (computer memory)PhysicsWavefrontBeam (structure)Electron opticsRealization (probability)DiffractionAngular momentumCathode rayMaterials scienceResistNanotechnologyQuantum mechanics

Résumé

récupéré en direct d'OpenAlex

Electron vortex beams (EVBs) are an appealing topic, both in fundamental science and for practical applications in electron microscopy [1, 2]. Some of the most promising applications require beams that have large orbital angular momentum (OAM) [2, 3, 4]. Here, we demonstrate the largest (L=1000 ħ) high quality EVB by using electron beam lithography (EBL) to fabricate a phase hologram. EBL provides superior fabrication quality and a larger number of addressable points when compared with focused ion beam (FIB) milling. We measure the OAM of the generated EVB through propagation after a hard aperture cut [5]. Comparisons with simulations confirm an average OAM of (960±120)ħ , which is consistent with the intended value. A clear improvement when compared with a FIB‐nanofabricated hologram is demonstrated in terms of 1) the maximum OAM that can be reached; 2) the minimum feature size (33 nm in the present study); 3) the improved uniformity of the frequency response; 4) the better suppression of higher order diffraction due to a nearly perfect rectangular groove profile. We believe that EBL will be the fabrication technique of choice for most new diffractive optics with electrons in the future, permitting more complex holograms and new applications in material science.

Récupéré en direct depuis OpenAlex et désinversé. Les résumés ne sont pas conservés dans cette base de données : les index inversés représentent 8,6 Go des 9,3 Go de texte de la base, et le serveur dispose de 13 Go libres.

Comment cette classification a été obtenuedéplier

Prédiction distillée sur la base complète

Imitation des enseignants

Ni prévalence calibrée, ni vérité terrain. Validation humaine à venir. Apprise à partir de 10 348 étiquettes directes de Codex et de 10 348 étiquettes directes de Gemma. Le mode candidate est l'union des têtes enseignantes seuillées; le consensus est leur intersection. Ces sorties portent le statut machine_predicted_unvalidated et ne sont ni des étiquettes humaines ni des étiquettes directes de modèles de pointe.

score de la tête « metaresearch » (Codex)0,000
score de la tête « metaresearch » (Gemma)0,000
Version: codex-gemma-dda1882f352aStatut de validation: machine_predicted_unvalidated
Catégories candidatesMéta-épidémiologie (sens strict)
Catégories consensuellesaucune
DomaineSignal candidat: aucune · Signal consensuel: aucune
Devis d'étudeSignal candidat: Sans objet · Signal consensuel: Sans objet
GenreSignal candidat: Autre · Signal consensuel: Autre
Score de désaccord entre enseignants0,113
Score d'incertitude au seuil1,000

Scores Codex et Gemma par catégorie

CatégorieCodexGemma
Métarecherche0,0000,000
Méta-épidémiologie (sens strict)0,0010,000
Méta-épidémiologie (sens large)0,0010,000
Bibliométrie0,0000,000
Études des sciences et des technologies0,0000,000
Communication savante0,0000,000
Science ouverte0,0010,000
Intégrité de la recherche0,0000,000
Charge utile insuffisante (le modèle a refusé de juger)0,0010,000

Scores machine (provisoires)

Les deux têtes enseignantes du modèle étudiant, lues sur ce travail. Un score ordonne la base pour la relecture; il n'affirme jamais une catégorie, et le statut de validation accompagne chaque rangée tel quel.

Scores de référence d'un modèle non mature (critères de maturité non atteints, 7 itérations). Un score ordonne; il n'affirme jamais une catégorie.

Tête enseignante Opus0,005
Tête enseignante GPT0,257
Écart entre enseignants0,251 · la distance entre les deux têtes enseignantes sur ce seul travail
Statut de validationscore_only:v0-immature-baseline · tel quel depuis la passe de notation : score_only signifie que le nombre peut ordonner les travaux, et qu'aucune étiquette de catégorie n'en découle

Classification

machine, non validée

Prédiction automatique; un appel candidat d’une seule tête enseignante, pas un consensus.

Devis d'étudeSans objet
Domainenon disponible
GenreAutre

Le détail, modèle par modèle et score par score, se trouve en fin de page sous « Comment cette classification a été obtenue ».

En bref

Citations0
Publié2016
Routes d'admission1
Résumé présentoui

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